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高分子ナノ濾過膜および水処理膜の製造方法 (未公開特許出願)

国内特許コード P210017500
整理番号 N20070
掲載日 2021年3月17日
出願番号 特願2021-021107
出願日 令和3年2月12日(2021.2.12)
優先権データ
  • 特願2020-022330 (2020.2.13) JP
発明の名称 高分子ナノ濾過膜および水処理膜の製造方法 (未公開特許出願)
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