ハイドロゲル成形体の製造装置、ハイドロゲル成形体の製造システム、およびハイドロゲル成形体の製造方法 （未公開特許出願）
| 国内特許コード | P210017501 |
|---|---|
| 整理番号 | N20062 |
| 掲載日 | 2021年3月17日 |
| 出願番号 | 特願2021-020815 |
| 出願日 | 令和3年2月12日(2021.2.12) |
| 優先権データ |
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| 発明の名称 | ハイドロゲル成形体の製造装置、ハイドロゲル成形体の製造システム、およびハイドロゲル成形体の製造方法 （未公開特許出願） |
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