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活性酸素による細胞培養基板の表面改質および滅菌処理

国内特許コード P210017915
整理番号 T-1590
掲載日 2021年9月29日
出願番号 特願2015-038344
公開番号 特開2016-158524
登録番号 特許第6712072号
出願日 平成27年2月27日(2015.2.27)
公開日 平成28年9月5日(2016.9.5)
登録日 令和2年6月2日(2020.6.2)
発明者
  • 岩森 暁
  • 大家 渓
  • 細谷 和輝
  • 松本 裕之
  • 吉野 潔
  • 岩崎 達行
  • 小佐々 亮
出願人
  • 学校法人東海大学
  • 岩崎電気株式会社
発明の名称 活性酸素による細胞培養基板の表面改質および滅菌処理
発明の概要 【課題】活性酸素を用いることで、低コストかつ非常に簡便に、細胞培養基板の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法を提供すること、及び、生物研究や医学、薬学の分野で利用される滅菌容器を提供すること。
【解決手段】活性酸素により生物研究や医学、薬学の分野で利用される細胞培養基板を有する容器の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法。当該方法においては、同一チャンバー内において紫外線を酸素に照射することで生成した活性酸素を前記細胞培養基板に曝露しても良く、別途生成した活性酸素を前記細胞培養基板に曝露しても良い。
【選択図】図4
従来技術、競合技術の概要

現在、生物研究や医学、薬学の分野では、新薬や新たな治療法の開発、生体機構の把握をするために、生物の最小単位である細胞をポリスチレン(PS)製の細胞培養基板上で培養して試験を行うことが一般的である。接着細胞の培養には、細胞培養基板への細胞の接着が必要であることから、細胞培養基板の接着面に適度な粗さと親水性の付与のための表面改質が必要不可欠である。また、細胞培養に利用するためには、細胞培養基板への雑菌の混入(コンタミネーション)を防ぐための滅菌処理を行わなければならない。

従来、細胞培養基板を有する細胞培養皿等の細胞培養器具の作製には、細胞培養基板の表面をプラズマ処理することで、細胞の培養に必要な適度な粗さと親水性を付与するという方法が採用されている。しかし、プラズマ処理を用いた方法では、プラズマを用いるための大規模な装置が必要であり、プラズマ処理により培養基板の材料であるプラスチックが大きく損傷するという問題が生じていた。また、プラズマ処理された培養基板は、細胞の接着が促進される反面、細胞の増殖を抑制する傾向があることも知られている。

特許文献1には、このような問題を解決するために、ポリマー基材にプラズマ照射した後に、少なくとも1以上の洗浄工程を含む方法により、プラズマ処理したポリマー基材の細胞の接着性を高める方法が示されている。

産業上の利用分野

本発明は、活性酸素による細胞培養基板の表面改質および滅菌処理方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
活性酸素により有機高分子材料から成る細胞培養基板の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法であって、
少なくとも一面が紫外線を透過しない通気性を有する滅菌バッグに前記細胞培養基板を封入し、
活性酸素生成装置で発生した前記活性酸素を前記滅菌バッグに導入し、
前記滅菌バッグ内で前記活性酸素を前記細胞培養基板に暴露する、方法であって
前記活性酸素生成装置が酸素存在下、紫外線の照射により前記活性酸素を発生すること、及び
前記紫外線が前記細胞培養基板に照射されないことを特徴とする、方法。

【請求項2】
前記有機高分子材料が、ポリスチレンであることを特徴とする、請求項1に記載の方法。

【請求項3】
前記細胞培養基板が封入された前記滅菌バッグが前記酸素存在下に静置されていることにより、前記活性酸素の発生と前記細胞培養基板への前記活性酸素の暴露を同一装置内で行うことを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。

【請求項4】
前記活性酸素生成装置が紫外線ランプであることを特徴とする、請求項1~3の何れか一項に記載の方法。

【請求項5】
前記紫外線が、少なくとも260nm以下の波長の光を照射することを特徴とする、請求項1~の何れか一項に記載の方法。

【請求項6】
前記紫外線が、少なくとも185nm及び254nmの波長の光を照射することを特徴とする、請求項に記載の方法。

【請求項7】
前記細胞培養基板が、シャーレ、遠沈管、培養ビン、又は培養フラスコの少なくとも一部であることを特徴とする、請求項1~の何れか一項に記載の方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 登録
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