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SCATTERING TARGET HOLDING MECHANISM AND ELECTRON SPIN ANALYZER

Patent code P020000330
File No. P1999-059-JP01
Posted date May 27, 2003
Application number P2000-130224
Publication number P2001-311702A
Patent number P3383842
Date of filing Apr 28, 2000
Date of publication of application Nov 9, 2001
Date of registration Dec 27, 2002
Inventor
  • (In Japanese)武笠 幸一
  • (In Japanese)池田 正幸
  • (In Japanese)末岡 和久
  • (In Japanese)武藤 征一
  • (In Japanese)上遠野 久夫
  • (In Japanese)上田 映介
Applicant
  • (In Japanese)学校法人北海道大学
Title SCATTERING TARGET HOLDING MECHANISM AND ELECTRON SPIN ANALYZER
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new scattering target holding mechanism capable of facilitating exchange of a scattering target, and to provide an electron spin analyzer equipped with the scattering target holding mechanism and capable of facilitating exchange of the scattering target.

SOLUTION: The scattering target 5 composing the electron spin analyzer is held by a scattering target holding member 6 made of conductive material from the outside of a space formed by an accelerating electrode 2-1 and an electrode holding part 3. The scattering target holding member is insulated and supported by an insulating support member made of insulating material. The scattering target 5, the scattering target holding member 6 and the insulating support member 7 are disposed integrally and detachably along a guide member 8 formed so as to cover the peripheral part of the insulating support member.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)20 ~60KeV に加速した電子のスピン分析を行う小型電子スピン分析器では、分析器の空間的制約のため散乱ターゲットの交換が容易でない。そのため、従来の電子スピン分析器では、真空槽を含めた分析装置本体から分析器部分を取り外して分解しないとターゲットの交換ができなかった。また、分析性能は散乱ターゲットの膜厚に依存する。さらに、分析性能のター
ゲット膜厚依存性を測定することは、分析器の定量性を評価するために有効であるが、従来の技術では散乱ターゲットの交換が容易にできず、高い定量性を確保することができなかった。
Field of industrial application (In Japanese)この発明は、電子材料分析、磁気材料材料表面分析などにおける高効率の電子スピン分析装置に好適に用いることのできる、散乱ターゲット保持機構及びその電子スピン分析器に関するものである。
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  散乱ターゲットを保持する導電性材料からなる散乱ターゲット保持部と、この散乱ターゲット保持部を絶縁支持する絶縁性材料からなる絶縁支持部と、前記散乱ターゲットを設置する所定の箇所に、前記散乱ターゲット保持部と前記絶縁支持部とを案内するガイド部とを具えることを特徴とする、散乱ターゲット保持機構。

【請求項2】
  電子線発生装置と、この電子線発生装置の電子線発射口と対向するように配置された半球状の加速電極部と、この加速電極部を支持する電極支持部と、前記加速電極部の外周部に設けられた散乱電子検出部と、前記加速電極部内であって、前記電極支持部に形成された開口部内に設けられた散乱ターゲットとを具え、前記電子線発生装置から出射された電子線を前記加速電極部に設けられた開口部から前記加速電極部内に導入するとともに、前記散乱ターゲットに衝突させ、これによって散乱された前記電子線を前記散乱電子検出部によって検出することにより前記電子線のスピン分析を行うようにした電子スピン分析器において、
前記散乱ターゲットを前記加速電極部及び前記電極支持部で形成される空間の外側から保持するようにした導電性材料からなる散乱ターゲット保持部材と、この散乱ターゲット支持部材を絶縁支持するようにした絶縁性材料からなる絶縁支持部材と、この絶縁支持部材の外周部を覆うように形成されるとともに前記散乱ターゲット、前記散乱ターゲット支持部材、及び前記絶縁支持部材を一体的に着脱できるようにしたガイド部材とを具えることを特徴とする、電子スピン分析器。
Industrial division
  • (In Japanese)試験、検査
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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04175_01SUM.gif
State of application right Right is in force
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