Top > Search of Japanese Patents > METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM

METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM

Patent code P03A000594
File No. U2000P153
Posted date Apr 16, 2004
Application number P2000-377157
Publication number P2002-180283A
Patent number P3388410
Date of filing Dec 12, 2000
Date of publication of application Jun 26, 2002
Date of registration Jan 17, 2003
Inventor
  • (In Japanese)兼松 秀行
  • (In Japanese)増尾 嘉彦
  • (In Japanese)沖 猛雄
Applicant
  • (In Japanese)鈴鹿工業高等専門学校
Title METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a stable tin-nickel alloy film free from nonequilibrium NiSn phase.

SOLUTION: A tin layer and a nickel layer are successively deposited on a prescribed substrate, respectively, to form a multilayered film consisting of the tin layer and the nickel layer. Then, the multilayered film is irradiated with laser beam to allow a tin element constituting the tin layer to diffuse into the nickel layer, by which the tin-nickel alloy film composed of equilibrium phase, such as Ni3Sn phase, as a stable phase can be manufactured.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)すず-ニッケル合金膜は,装飾用クロムめっき膜の代替としてここ数年注目されてきた。クロムめっき膜自体は耐摩耗性、耐食性を初めとするいくつかの優れた性質を持っているが、環境に有害な元素として、その使用については、現在も規制が比較的厳しく、今後においてもその規制が強化される方向にある。この意味から、代替めっき膜としてのすず-ニッケル合金膜の重要性は今後ますます増すと考えられる。従来の技術は、このすず-ニッケル膜を水溶液からの合金電析を用いて製造する。そのため、二つの異なる金属の電析を、同一の電位で可能ならしめねばならず、様々な工夫が要求されていた。また、使用される化学種も限定され、さらには、環境性に反するような添加剤なども必要とされていた。さらに、水溶液中からの電析によって得た合金膜は、常に平衡状態図には認められない非平衡なNiSn相から構成されていた。したがって、前記合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによって前記NiSn相が他の安定相へ移行する場合が生じ、使用中において前記合金膜の特性が変化してしまう場合が生じていた。このため、前記合金膜に対して所定の目的で付与していた機能が使用中において変化してしまい、目的とする機能性を十分に得ることができないという問題もあった。前記非平衡なNiSn相の生成を防止すべく、電析条件、添加剤などを工夫することについても種々試みられたが、前記NiSn相以外の安定な相を生成することはできなかった。本発明は、上記非平衡NiSn相を含まない安定なすず-ニッケル合金膜を製造する方法を提供することを目的とする。
Field of industrial application (In Japanese)装飾用として好適に用いることのできるすず-ニッケル合金膜の製造方法
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  所定の基板上に、ニッケル層を厚さ10μm~50μmに析出させるとともに、すず層を厚さ10μm~50μmに析出させて、前記ニッケル層と前記すず層とがこの順に積層されてなる多層膜を形成した後、この多層膜にレーザ光を照射することにより、すずの融点以上の温度に加熱して前記すず層を溶解させ、すずの液相拡散を利用して、すず-ニッケル合金膜を製造することを特徴とする、すず-ニッケル合金膜の製造方法。
【請求項2】
  前記レーザ光を、150W/cm2~500W/cm2の強度で前記多層膜に照射することを特徴とする、請求項1に記載のすず-ニッケル合金膜の製造方法。
【請求項3】
  前記レーザ光の照射時間が、5~60秒であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のすず-ニッケル合金膜の製造方法。
【請求項4】
  前記すず層及び前記ニッケル層は、電気メッキ法により析出させることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一に記載のすず-ニッケル合金膜の製造方法。
【請求項5】
  前記すず-ニッケル合金膜は、Ni3Sn相、Ni3Sn2相及びNi3Sn4相の少なくとも一つを有することを特徴とする、請求項1~4のいずれか一に記載のすず-ニッケル合金膜の製造方法。
Industrial division
  • Surface treatment
  • (In Japanese)冶金、熱処理
  • Alloy
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

※Click image to enlarge.

05126_01SUM.gif
State of application right Right is in force
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent.


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close