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METHOD FOR MANUFACTURING FILM OF TIN-NICKEL ALLOY

Patent code P03A000611
File No. U2000P117
Posted date Apr 16, 2004
Application number P2000-323631
Publication number P2002-129375A
Patent number P3388408
Date of filing Oct 24, 2000
Date of publication of application May 9, 2002
Date of registration Jan 17, 2003
Inventor
  • (In Japanese)兼松 秀行
  • (In Japanese)小林 達正
  • (In Japanese)沖 猛雄
Applicant
  • (In Japanese)鈴鹿工業高等専門学校
Title METHOD FOR MANUFACTURING FILM OF TIN-NICKEL ALLOY
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a film of stable tin-nickel alloy without including a non-equilibrium NiSn phase.

SOLUTION: This method for manufacturing a film of the tin-nickel alloy includes precipitating a tin layer and a nickel layer sequentially on each other, on the predetermined substrate, to form a multilayer film consisting of the above tin layer and the above nickel layer, and then diffusing a tin element composing the above tin layer into the above nickel layer, by heating the multilayer at the predetermined temperature.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)すず-ニッケル合金膜は,装飾用クロムめっき膜の代替としてここ数年注目されてきた。クロムめっき膜自体は耐摩耗性、耐食性を初めとするいくつかの優れた性質を持っているが、環境に有害な元素として、その使用については、現在も規制が比較的厳しく、今後においてもその規制が強化される方向にある。この意味から、代替めっき膜としてのすず-ニッケル合金膜の重要性は今後ますます増すと考えられる。従来の技術は、このすず-ニッケル膜を水溶液からの合金電析を用いて製造する。そのため、二つの異なる金属の電析を、同一の電位で可能ならしめねばならず、様々な工夫が要求されていた。また、使用される化学種も限定され、さらには、環境性に反するような添加剤なども必要とされていた。さらに、水溶液中からの電析によって得た合金膜は、常に平衡状態図には認められない非平衡なNiSn相から構成されていた。したがって、前記合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによって前記NiSn相が他の安定相へ移行する場合が生じ、使用中において前記合金膜の特性が変化してしまう場合が生じていた。このため、前記合金膜に対して所定の目的で付与していた機能が使用中において変化してしまい、目的とする機能性を十分に得ることができないという問題もあった。前記非平衡なNiSn相の生成を防止すべく、電析条件、添加剤などを工夫することについても種々試みられたが、前記NiSn相以外の安定な相を生成することはできなかった。本発明は、上記非平衡NiSn相を含まない安定なすずーニッケル合金膜を製造する方法を提供することを目的とする。
Field of industrial application (In Japanese)すずーニッケル合金膜の製造方法、詳しくは装飾用として好適に用いることのできるすずーニッケル合金膜の製造方法
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  所定の基板上に、ニッケル層 を電解メッキにより析出させるとともに、すず層を電解メッキにより析出させて、前記ニッケル層と前記すず層とがこの順に積層されてなる多層膜を形成した後、この多層膜をすずの融点以上の温度で加熱し、すずの液相拡散を利用することにより、Ni3Sn相、Ni3Sn2相及びNi3Sn4相を含み、非平衡NiSn相を含まない、装飾用の安定なすずーニッケル合金膜の製造方法。
Industrial division
  • Surface treatment
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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05142_01SUM.gif
State of application right Right is in force
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