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STRESS DISTRIBUTION MEASURING METHOD

Patent code P03A000662
File No. U2000P036
Posted date Nov 18, 2003
Application number P2000-204573
Publication number P2002-022559A
Patent number P3362182
Date of filing Jul 6, 2000
Date of publication of application Jan 23, 2002
Date of registration Oct 25, 2002
Inventor
  • (In Japanese)森本 吉春
  • (In Japanese)野村 孝徳
  • (In Japanese)藤垣 元治
  • (In Japanese)松井 亮
Applicant
  • (In Japanese)学校法人和歌山大学
Title STRESS DISTRIBUTION MEASURING METHOD
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stress distribution measuring method for measuring stress distribution in a sample from the light intensity distribution in photoelastic fringes and capable of analyzing the stress distribution in real time.

SOLUTION: An analyzer 5 is successively rotated by an angle a at a time in a fixed direction. Further, a 1/4 wavelength plate 4 is successively rotated by an angle 2α at a time in the same direction as the analyzer 5. By synchronizing their rotation with the frame rate of a CCD camera for example, the principal direction θ of stresses and the principal stress difference in a surface of the specimen 10 can be analyzed in real time.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)光弾性縞の光強度分布から試料の応力分布を計測する方法として、測定に使用する光学系の検光子を連続的に回転させて行うSarmaの方法がある。しかしながら、この方法では、光源の明るさの変動に対応できないという問題、及び演算不可能な場合が生じるという問題がある。このため、この方法により試料の応力分布の全面解析を実行することは不可能であった。また、上記応力分布の測定方法として、測定に使用する光学系の1/4波長板及び検光子を回転させるPattersonとWangの方法がある。この方法によれば、Sarmaの方法と異なり、試料の応力分布の全面解析を実行することが可能である。しかしながら、1/4波長板及び検光子の回転角度が等間隔でないため、測定によって得られた各光弾性縞をCCDカメラのフレームレートと同期させることができないという問題がある。このため、この方法によっては、試料の応力分布を実時間で解析することができなかった。
Field of industrial application (In Japanese)工場のオンラインシステムなどにおいて好適に使用することのできる応力分布計測方法
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  所定の光源と、1/4波長板と、検光子とを具える光学系を用いて試料に対する光弾性縞を得、この光弾性縞の光強度分布から前記試料の応力分布を計測する方法であって、前記検光子を一定方向に角度α毎に連続的に回転させるとともに、前記1/4波長板を前記検光子の回転方向と同一方向に、前記角度αの整数倍の角度βで前記検光子の回転と同期するようにして連続的に回転させ、前記試料における応力分布を実時間で解析するようにしたことを特徴とする、応力分布計測方法。
【請求項2】
  前記検光子の前記角度α毎の回転、及び前記1/4波長板の前記角度β毎の回転を、CCDカメラのフレームレイトと同期させて行うことを特徴とする、請求項1に記載の応力分布計測方法。
【請求項3】
  前記角度βは前記角度αの2倍であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の応力分布計測方法。
【請求項4】
  前記角度αがπ/8であることを特徴とする、請求項3に記載の応力分布計測方法。
【請求項5】
  前記光学系は複数の1/4波長板を具え、この内の一つを前記検光子の回転方向と同一方向に、前記角度β毎に連続して回転させることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一に記載の応力分布計測方法。
Industrial division
  • Measurement
IPC(International Patent Classification)
Drawing

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05179_05SUM.gif
State of application right Right is in force
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