Top > Search of Japanese Patents > CHIRAL LEAD CATALYST AND ASYMMETRIC ALDOL REACTION METHOD

CHIRAL LEAD CATALYST AND ASYMMETRIC ALDOL REACTION METHOD meetings achieved

Patent code P03A001769
File No. A051P149
Posted date Nov 18, 2003
Application number P2000-069500
Publication number P2001-252571A
Patent number P3343100
Date of filing Mar 13, 2000
Date of publication of application Sep 18, 2001
Date of registration Aug 23, 2002
Inventor
  • (In Japanese)小林 修
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title CHIRAL LEAD CATALYST AND ASYMMETRIC ALDOL REACTION METHOD meetings achieved
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new asymmetric synthesis catalyst with a high yield and high optical selectivity, capable of being used for a simple and general purpose reaction operation, and an asymmetric synthesis method using this catalyst.
SOLUTION: A chiral lead catalyst containing a lead compound represented by formula Pb(ORf)2 (wherein Rf is a fluorine-containing alkylsulfonyl) and a chiral crown ether compound having a skeleton represented by formula 1 is provided, and an asymmetric aldol reaction using this catalyst is carried out.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


近年、医薬品、香料等の諸分野での化学合成では、高い収率で光学選択性に優れた不斉合成の実現が重要な課題になっている。特に、不斉合成反応においては、触媒を用いて行う方法が注目されているところである。

Field of industrial application (In Japanese)


この出願の発明は、キラル鉛触媒と不斉アルドール反応方法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、水の存在下においても、高い収率と光学選択性を可能とし、温和な条件下において不斉合成を可能とする新しいキラル鉛触媒と、これを用いた不斉アルドール反応方法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
次式
Pb(ORf 2
(Rfは、含フッ素アルキルスルホニル基を示す)で表わされる鉛化合物と、次式
【化1】
 

で表わされる骨格を有するキラルクラウンエーテル化合物とを含有することを特徴とするキラル鉛触媒。

【請求項2】
 
鉛化合物は、鉛トリフレートである請求項1のキラル鉛触媒。

【請求項3】
 
キラルクラウンエーテル化合物は、ビナフチル環に炭化水素基またはハロゲン原子の置換基を有している請求項1または2のキラル鉛触媒。

【請求項4】
 
請求項1ないし3の触媒を用いての不斉アルドール反応方法であって、前記触媒の存在下、含水溶媒中において、アルデヒド反応物とシリルエノールエーテル化合物とを反応させてヒドロキシケトン化合物を合成することを特徴とする不斉アルドール反応方法。

【請求項5】
 
含水溶媒が水とアルコールとからなる請求項4の不斉アルドール反応方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

※Click image to enlarge.

05342_01SUM.gif
State of application right Registered
License status (In Japanese)通常実施権[C01-05]
Reference ( R and D project ) CREST Single Molecule and Atom Level Reactions AREA
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent.


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close