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METHOD AND APPARATUS FOR ANISOTROPIC ANALYSIS

Patent code P03A001925
File No. U2000P105
Posted date Oct 1, 2003
Application number P2000-323520
Publication number P2002-131225A
Patent number P3479685
Date of filing Oct 24, 2000
Date of publication of application May 9, 2002
Date of registration Oct 10, 2003
Inventor
  • (In Japanese)長谷川 富市
Applicant
  • (In Japanese)学校法人新潟大学
Title METHOD AND APPARATUS FOR ANISOTROPIC ANALYSIS
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new method and a new apparatus of anisotropic analysis, where the definite region of a space can be measured simultaneously using a comparatively simple measuring system.

SOLUTION: A laser beam, emitted from a laser light source 1, is divided into two beams by a half mirror 2, the plane of polarization of one split beam is turned by 90° by a half-wave plate 7, so as to at right angles to the plane of polarization of the other split beam, and both beams are superposed to as to be incident on a sample A. After the beams have been transmitted through the sample A, they are separated again by a polarization beam splitter 5, the plane of polarization of the other divided beam is turned by 90° by a half-wave plate 8, so as to coincide with the plane of polarization of one split beam, both beams are superposed again by a half mirror 4, and interference fringes generated by their interference are projected on a screen 6.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)従来、粘弾性流体の法線応力差などの異方性を測定及び解析するためには、一本の光を電気的に変調し、又は機械的操作を行って偏光面が90度異なる複数の光を時間的に交互に生成させ、これらの光を前記粘弾性流体に入射させて、透過してきた前記複数の光を解析することにより実施していた。従って、透過してきた前記複数の光を一定の出力信号として電気的に検出するためには、これらを電気的な同期を行う必要があった。このため、測定系全体が複雑となるとともに、高額な計器が必要された。さらに、上記のような方法においては、空間のある一定領域に亘る同時計測を実施することはできなかった。
Field of industrial application (In Japanese)光の干渉を利用した物質の異方性解析方法及び異方性解析装置、さらに詳しくは、粘弾性流体などにおける応力状態の異方性観測などに好適に用いることのできる異方性解析方法及びこの方法に用いる異方性解析装置
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  偏光面が互いに所定の角度をなして交差する同一波長の2つの光を、異方性を測定すべき試料の同一部分に同時に入射させるとともに、前記試料を透過してきた前記2つの光の一方の偏光面を前記所定の角度回転させることにより、前記2つの光の前記一方の偏光面を前記2つの光の他方の偏光面と一致させた状態で前記2つの光を重畳させ、この重畳させた光の干渉縞を観察することにより、前記試料の異方性を解析することを特徴とする、異方性解析方法。
【請求項2】
  前記2つの光を重畳させた状態において、前記試料に入射させることを特徴とする、請求項1に記載の異方性解析方法。
【請求項3】
  前記2つの光を互いに交差するようにして、前記試料の前記同一部分に同時に入射させることを特徴とする、請求項1に記載の異方性解析方法。
【請求項4】
  前記所定の角度は、90度であることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一に記載の異方性解析方法。
【請求項5】
  異方性を測定すべき試料の前方において、異方性を測定するための光を発生させるレーザ光源と、このレーザ光源から発せられた光を分割する光分割手段と、分割された一方の光の偏光面を所定の角度回転させるための第1の偏光面回転手段と、前記第1の偏光面回転手段の後方に、前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光を同一光路上で重畳させるための追加の光重畳手段とを具え、異方性を測定すべき前記試料の後方において、前記分割された一方の光又は分割された他方の光を前記所定の角度回転させて両者の偏光面を一致させるための第2の偏光面回転手段と、前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光を重畳させるための光重畳手段と、この重畳された光の干渉縞を投影するための光投影手段とを具えることを特徴とする、異方性解析装置。
【請求項6】
  異方性を解析すべき前記試料の後方において、前記第2の偏光面回転手段の前方に、重畳された前記光を前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光に分離する光分離手段とを具えることを特徴とする、請求項5に記載の異方性解析装置。
【請求項7】
  前記第1の偏光面回転手段及び前記第2の偏光面回転手段の少なくとも一方は、半波長板であることを特徴とする、請求項5又は6に記載の異方性解析装置。
【請求項8】
  前記光分割手段及び前記光重畳手段の少なくとも一方は、ハーフミラーであることを特徴とする、請求項5~7のいずれか一に記載の異方性解析装置。
【請求項9】
  前記追加の光重畳手段は、ハーフミラーであることを特徴とする、請求項5~8のいずれか一に記載の異方性解析装置。
【請求項10】
  前記光分離手段は、偏光ビームスプリッタであることを特徴とする、請求項6~9のいずれか一に記載の異方性解析装置。
Industrial division
  • (In Japanese)試験、検査
  • Measurement
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Right is in force
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