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METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN meetings

Patent code P03A003486
File No. WASEDA-44
Posted date Mar 25, 2004
Application number P2000-272664
Publication number P2002-080973A
Patent number P4811543
Date of filing Sep 8, 2000
Date of publication of application Mar 22, 2002
Date of registration Sep 2, 2011
Inventor
  • (In Japanese)逢坂 哲彌
  • (In Japanese)横島 時彦
  • (In Japanese)清水 さなえ
  • (In Japanese)田中 厚志
Applicant
  • (In Japanese)学校法人早稲田大学
  • (In Japanese)富士通株式会社
Title METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN meetings
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To deposit a homogeneous plating film having soft magnetic properties selectively in a required pattern.

SOLUTION: In the method for depositing a required fine pattern plating film having soft magnetic properties on a substrate by using an electroless plating bath using dimethylamineborane as a reducing agent, a trace amount of organic stabilizer is added to the electroless plating bath so as to deposit the homogeneous electroless plating film selectively on the required pattern part, further, impurities in the plating bath are removed, and continuously, suitable stirring is performed.

Field of industrial application (In Japanese)
本発明は、ジメチルアミンボランを還元剤とする無電解めっき浴を用いて基板上に軟磁気特性を有する所用の微細パターンを形成する微細パターンの作製方法に関する。
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  基板上にジメチルアミンボランを還元剤とし、金属イオンと錯化剤とを含み、上記金属イオンとしてコバルトイオン、ニッケルイオン、鉄イオンの2種以上を含む無電解めっき浴を用いて軟磁気特性を有する所用の微細パターンめっき膜を形成する方法において、上記所用のパターン部分に選択的に均質な無電解めっき膜を形成するように上記無電解めっき浴に有機安定剤として分子中に硫黄を含む有機化合物を0.01~10ppmの範囲で上記所用のパターン部分に対する選択析出性を与える効果量添加すると共に、このめっき浴中の不純物を除去し、かつ連続的に攪拌を行うことを特徴とする微細パターンの作製方法。
【請求項2】
  上記金属イオンとしてコバルトイオン及び鉄イオンの2種を含む請求項1記載の微細パターンの作製方法。
【請求項3】
  上記分子中に硫黄を含む有機化合物としてチオジグリコール酸1~1.5ppmを添加したものである請求項1又は2記載の微細パターンの作製方法。
【請求項4】
  上記分子中に硫黄を含む有機化合物としてチオ尿素0.2~0.3ppmを添加したものである請求項1又は2記載の微細パターンの作製方法。
【請求項5】
  上記分子中に硫黄を含む有機化合物として2-アミノチアゾール0.3~0.5ppmを添加したものである請求項1又は2記載の微細パターンの作製方法。
【請求項6】
  攪拌を、基板の揺動、回転ディスク電極、パドルめっき装置、循環めっき液攪拌装置の少なくともいずれかを用いて、軟磁気特性を劣化させない速度で行うようにした請求項1乃至5のいずれか1項記載の微細パターンの作製方法。
【請求項7】
  めっき浴中の不純物の除去を、めっき浴作製時のめっき浴の濾過及びめっき時のめっき浴の濾過のいずれか又は両方にて行うようにした請求項1乃至6のいずれか1項記載の微細パターンの作製方法。
【請求項8】
  めっき浴を連続濾過し、かつパドルめっき装置にて60~80rpmの速度で攪拌を行いながら無電解めっきを行って、所用のパターン部分に均質な軟磁気特性を有する無電解めっき膜を形成するようにした請求項1乃至5のいずれか1項記載の微細パターンの作製方法。
【請求項9】
  レジストパターンを作製した基板上に上記微細パターンめっき膜を形成する請求項1乃至8のいずれか1項記載の微細パターンの作製方法。
Industrial division
  • Surface treatment
  • Magnetic material
  • Electric parts
  • Electric application devices
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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06761_01SUM.gif
State of application right Right is in force
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