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No.	Application number ▲▼	Gazette No ▲▼	Title ▲▼	Release Date ▲▼	Update Date ▲▼	Information Provider ▲▼
1	特願2003-018997	特許第3668779号	光導波装置	2004/07/16	2020/11/30	岐阜大学
2	特願2003-064586	特許第3950967号	真空紫外光を用いたＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を含む固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法及びパターン形成方法	2008/12/19	2018/03/14	防衛省
3	特願2004-342700	特許第4517147号	極端紫外光源装置	2006/06/23	2018/03/13	宮崎大学
4	特願2005-035508	特許第4538631号	反応現像画像形成法	2011/08/18	2018/02/28	横浜国立大学
5	特願2005-040478	特許第4825966号	粗動微動位置決め装置	2006/11/17	2018/03/02	宇都宮大学
6	特願2005-211948	特許第4487069号	光パターニング材料および光パターン形成方法	2008/10/31	2018/02/27	千葉大学
7	特願2006-093877	特許第4631059号	光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー	2008/10/31	2018/02/21	千葉大学
8	特願2006-242182	特許第5061269号	成形用スタンパおよび成形装置	2015/10/16	2018/02/20	京都大学
9	特願2006-543078	特許第3950981号	高解像度パターン転写方法	2011/08/18	2018/02/21	東京工業大学
10	特願2007-037073	特許第5190860号	投影露光装置および投影露光方法	2008/08/01	2018/02/16	東京電機大学
11	特願2007-073891	特許第5055549号	液浸露光装置	2011/08/18	2018/02/16	宇都宮大学
12	特願2007-542331	特許第4876261号	パターニングされた物質の製造方法	2010/01/22	2018/02/16	北海道大学
13	特願2009-141221	特許第5574470号	極端紫外光源および極端紫外光発生方法	2009/07/10	2018/01/29	宮崎大学
14	特願2009-190533	特許第5544789号	無端状パターンの製造方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、及び光学素子	2016/09/23	2018/01/29	東京理科大学
15	特願2010-064194	特許第5665169号	金型製造方法およびその方法により形成された金型	2012/06/22	2018/01/16	早稲田大学
16	特願2010-107764	特許第5198506号	機能性デバイスの製造方法並びに薄膜トランジスタ及び圧電式インクジェットヘッド	2011/11/28	2018/01/15	科学技術振興機構（JST）