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該当件数 29件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
1 特願2017-222951 特開2019-096673 パターンの製造方法および半導体装置の製造方法 2019/07/25 2019/07/25 北海道大学
2 特願2017-512594 特許第6370996号 架橋ポリマー構造体の製造方法 コモンズ 外国出願あり 2018/09/19 2018/09/19 産総研
3 特願2015-534251 特許第6443992号 洗浄装置および洗浄方法 2017/06/26 2019/01/21 筑波大学
4 特願2014-525216 特許第5689207号 ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法 新技術説明会 2017/06/23 2017/12/18 科学技術振興機構(JST)
5 特願2015-095977 特開2016-213328 レジスト剥離方法およびレジスト剥離装置 UPDATE 2017/01/19 2019/09/30 大阪市立大学
6 特願2009-190533 特許第5544789号 無端状パターンの製造方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、及び光学素子 コモンズ 新技術説明会 2016/09/23 2018/01/29 東京理科大学
7 特願2006-242182 特許第5061269号 成形用スタンパおよび成形装置 2015/10/16 2018/02/20 京都大学
8 特願2013-125074 特許第6153110号 一成分極低温微細固体粒子連続生成装置、および、その一成分極低温微細固体粒子連続生成方法 新技術説明会 2015/03/06 2017/12/19 東北大学
9 特願2014-217379 特許第6450561号 結像パターンシミュレーションシステム、結像パターンシミュレーション方法、結像パターンシミュレーションプログラム及びこのプログラムを記録した記録媒体 2015/02/09 2019/01/18 北見工業大学
10 特願2010-222493 特許第5754699号 半導体リソグラフィ用光源装置 コモンズ 新技術説明会 実績あり 外国出願あり 2012/07/26 2018/01/17 関西大学
11 特願2010-064194 特許第5665169号 金型製造方法およびその方法により形成された金型 2012/06/22 2018/01/16 早稲田大学
12 特願2010-107764 特許第5198506号 機能性デバイスの製造方法並びに薄膜トランジスタ及び圧電式インクジェットヘッド 2011/11/28 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
13 特願2005-035508 特許第4538631号 反応現像画像形成法 コモンズ 2011/08/18 2018/02/28 横浜国立大学
14 特願2005-115261 特許第4590634号 反応現像画像形成法 コモンズ 2011/08/18 2018/02/28 横浜国立大学
15 特願2007-122964 特許第5110507号 反応現像画像形成法 コモンズ 2011/08/18 2018/02/16 横浜国立大学
16 特願2007-073891 特許第5055549号 液浸露光装置 コモンズ 2011/08/18 2018/02/16 宇都宮大学
17 特願2006-543078 特許第3950981号 高解像度パターン転写方法 コモンズ 外国出願あり 2011/08/18 2018/02/21 東京工業大学
18 特願2010-021638 特許第5288498号 光加工装置及び光加工方法 コモンズ 2011/07/14 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
19 特願2010-042667 特許第5480666号 感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法 2011/06/07 2018/01/12 科学技術振興機構(JST)
20 特願2009-038631 特許第5408649号 無端状パターンの作製方法 新技術説明会 2010/07/02 2018/01/29 東京理科大学
21 特願2007-542331 特許第4876261号 パターニングされた物質の製造方法 2010/01/22 2018/02/16 北海道大学
22 特願2009-141221 特許第5574470号 極端紫外光源および極端紫外光発生方法 新技術説明会 2009/07/10 2018/01/29 宮崎大学
23 特願2003-064586 特許第3950967号 真空紫外光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法及びパターン形成方法 2008/12/19 2018/03/14 防衛省
24 特願2005-211948 特許第4487069号 光パターニング材料および光パターン形成方法 コモンズ 新技術説明会 2008/10/31 2018/02/27 千葉大学
25 特願2006-093877 特許第4631059号 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー コモンズ 新技術説明会 2008/10/31 2018/02/21 千葉大学
26 特願2007-037073 特許第5190860号 投影露光装置および投影露光方法 外国出願あり 2008/08/01 2018/02/16 東京電機大学
27 特願2005-040478 特許第4825966号 粗動微動位置決め装置 コモンズ 新技術説明会 2006/11/17 2018/03/02 宇都宮大学
28 特願2004-342700 特許第4517147号 極端紫外光源装置 2006/06/23 2018/03/13 宮崎大学
29 特願2003-018997 特許第3668779号 光導波装置 2004/07/16 2018/03/14 岐阜大学

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