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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 1318件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
1301 特願2002-131574 特許第3706909号 超伝導体の均流化回路 2004/01/23 2013/04/24 科学技術振興機構(JST)
1302 特願2002-131833 特許第3472838号 波長選択性太陽光吸収材料及びその製造方法 新技術説明会 2004/01/23 2012/04/11 科学技術振興機構(JST)
1303 特願2000-264418 特許第3610372号 負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置 新技術説明会 2003/12/22 2013/04/22 物質・材料研究機構
1304 特願2000-352766 特許第3418731号 粒子位置の制御方法およびその制御方法を用いた粒子膜の製造方法および粒子膜 2003/11/18 2012/04/06 埼玉大学
1305 特願2001-150456 特許第3482469号 磁気記憶素子、磁気メモリ、磁気記録方法、磁気記憶素子の製造方法、及び磁気メモリの製造方法 2003/10/01 2018/03/20 北海道大学
1306 特願2000-293576 特許第3948898号 高飽和磁化および良好な軟磁気特性を有するFe基非晶質合金 2003/10/01 2015/10/09 科学技術振興機構(JST)
1307 特願2002-045302 特許第4105447号 12SrO・7Al2O3化合物とその合成方法 実績あり 2003/10/01 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
1308 特願2001-054382 特許第3969959号 透明酸化物積層膜及び透明酸化物p-n接合ダイオードの作製方法 2003/10/01 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
1309 特願2001-354440 特許第3616780号 コールドスプレー質量分析装置 実績あり 2003/10/01 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
1310 特願2000-242002 特許第3413491号 質量分析用インターフェイス、質量分析計、及び質量分析方法 2003/08/28 2012/04/06 科学技術振興機構(JST)
1311 特願2001-091521 特許第3862964号 2波長励起フォトルミネッセンスによる禁制帯内準位の測定方法及びその装置 2003/08/28 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
1312 特願2001-105872 特許第3507889号 アモルファスシリコン薄膜の成膜方法 2003/08/28 2018/03/20 九州大学
1313 特願2001-156689 特許第3607218号 球状単結晶シリコンの製造方法 2003/08/28 2018/03/20 JAXA
1314 特願2001-346909 特許第3834616号 スピンフィルタ 2003/08/28 2013/04/24 科学技術振興機構(JST)
1315 特願2001-012644 特許第3584281号 周波数逓倍方法及び周波数逓倍器 2003/08/28 2018/03/20 北海道大学
1316 特願2000-297832 特許第3521223号 酸化物膜の構造を制御する方法及び該方法に使用する装置 新技術説明会 2003/08/28 2012/04/06 長岡技術科学大学
1317 特願2001-248433 特許第4132750号 フェムト秒レーザー照射による量子ドット素子の作成方法 実績あり 2003/07/10 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
1318 特願2001-321251 特許第3560580号 12CaO・7Al2O3化合物とその作成方法 実績あり 2003/07/10 2018/07/23 科学技術振興機構(JST)

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