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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 9件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
1 特願2000-264418 特許第3610372号 負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置 UPDATE 新技術説明会 2003/12/22 2020/11/19 物質・材料研究機構
2 特願2004-294599 特許第4534055号 イオン源 UPDATE 2008/01/18 2020/11/19 金沢工業大学
3 特願2007-516201 特許第4945763号 電子ビーム露光装置 UPDATE 2009/05/15 2020/11/27 京都大学
4 特願2010-217084 特許第5442572号 荷電粒子ビーム装置、薄膜作製方法、欠陥修正方法及びデバイス作製方法 2012/04/17 2018/01/16 科学技術振興機構(JST)
5 特願2006-550760 特許第4956746号 荷電粒子発生装置及び加速器 UPDATE 実績あり 外国出願あり 2012/11/19 2020/11/20 京都工芸繊維大学
6 特願2006-162394 特許第4514157号 イオンビーム照射装置および半導体デバイスの製造方法 UPDATE 外国出願あり 2014/08/08 2020/11/27 京都大学
7 特願2011-518362 特許第5634992号 イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法 UPDATE 2015/04/15 2020/11/27 京都大学
8 特願2017-036566 特開2018-142471 マーキング方法、マーキング装置、およびマーキングされた物品 UPDATE 新技術説明会 2018/11/01 2020/11/19 群馬大学
9 特願2004-343294 特許第4636862号 ガスクラスターイオンビーム照射装置 UPDATE 2018/11/21 2020/11/27 京都大学

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