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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 17件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
1 特願2003-018997 特許第3668779号 光導波装置 UPDATE 2004/07/16 2020/11/30 岐阜大学
2 特願2003-064586 特許第3950967号 真空紫外光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法及びパターン形成方法 2008/12/19 2018/03/14 防衛省
3 特願2004-342700 特許第4517147号 極端紫外光源装置 2006/06/23 2018/03/13 宮崎大学
4 特願2005-040478 特許第4825966号 粗動微動位置決め装置 新技術説明会 2006/11/17 2018/03/02 宇都宮大学
5 特願2005-035508 特許第4538631号 反応現像画像形成法 2011/08/18 2018/02/28 横浜国立大学
6 特願2005-211948 特許第4487069号 光パターニング材料および光パターン形成方法 新技術説明会 2008/10/31 2018/02/27 千葉大学
7 特願2006-093877 特許第4631059号 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー 新技術説明会 2008/10/31 2018/02/21 千葉大学
8 特願2006-543078 特許第3950981号 高解像度パターン転写方法 外国出願あり 2011/08/18 2018/02/21 東京工業大学
9 特願2006-242182 特許第5061269号 成形用スタンパおよび成形装置 2015/10/16 2018/02/20 京都大学
10 特願2007-037073 特許第5190860号 投影露光装置および投影露光方法 外国出願あり 2008/08/01 2018/02/16 東京電機大学
11 特願2007-542331 特許第4876261号 パターニングされた物質の製造方法 2010/01/22 2018/02/16 北海道大学
12 特願2007-073891 特許第5055549号 液浸露光装置 2011/08/18 2018/02/16 宇都宮大学
13 特願2009-141221 特許第5574470号 極端紫外光源および極端紫外光発生方法 新技術説明会 2009/07/10 2018/01/29 宮崎大学
14 特願2009-190533 特許第5544789号 無端状パターンの製造方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、及び光学素子 新技術説明会 2016/09/23 2018/01/29 東京理科大学
15 特願2010-064194 特許第5665169号 金型製造方法およびその方法により形成された金型 2012/06/22 2018/01/16 早稲田大学
16 特願2010-021638 特許第5288498号 光加工装置及び光加工方法 2011/07/14 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
17 特願2010-107764 特許第5198506号 機能性デバイスの製造方法並びに薄膜トランジスタ及び圧電式インクジェットヘッド 2011/11/28 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)

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