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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 207件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
201 特願2001-086119 特許第3584284号 カルシウムシリサイド薄膜の成長方法 2005/01/18 2018/03/20 静岡大学
202 特願2013-558830 特許第5598829号 オゾン水を用いたパターニング方法 2015/02/09 2017/12/18 科学技術振興機構(JST)
203 特願2014-097751 特許第6253150号 エピタキシャルウエハ及びその製造方法 2017/06/14 2018/01/22 東京農工大学
204 特願2006-162394 特許第4514157号 イオンビーム照射装置および半導体デバイスの製造方法 UPDATE 外国出願あり 2014/08/08 2020/11/27 京都大学
205 特願2011-189748 特許第5692726号 アルミニウム薄膜の製造方法 2012/05/14 2018/01/05 鹿児島大学
206 特願2001-105872 特許第3507889号 アモルファスシリコン薄膜の成膜方法 2003/08/28 2018/03/20 九州大学
207 特願2016-183910 特開2018-048368 アモルファスカーボンの製造方法及びアモルファスカーボン 2017/10/30 2020/01/08 山口TLO

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