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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 113件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
101 特願2004-357764 特許第4402578号 三次元ディスプレイ コモンズ 2011/06/21 2018/03/09 科学技術振興機構(JST)
102 特願2004-290842 特許第4599553号 レーザ加工方法および装置 2010/06/18 2018/03/13 北海道大学
103 特願2004-163827 特許第4500996号 基盤に固着した貴金属膜からなるホログラフィック光学素子 コモンズ 2008/10/31 2018/03/13 千葉大学
104 特願2004-162557 特許第4512818号 基盤に固着した貴金属膜からなる写真画像 コモンズ 2008/10/31 2018/03/13 千葉大学
105 特願2004-095149 特許第4716210号 三次元画像データの取得方法および三次元画像用撮像システム コモンズ 2005/11/11 2018/03/08 科学技術振興機構(JST)
106 特願2004-093829 特許第4294526号 デジタルホログラフィ装置及びデジタルホログラフィを用いた像再生方法 コモンズ 新技術説明会 2005/11/11 2018/03/08 科学技術振興機構(JST)
107 特願2003-279503 特許第4452821号 光再構成型ゲートアレイのデータ書込装置及びデータ書込方法 2011/03/07 2018/03/07 九州工業大学
108 特願2003-064586 特許第3950967号 真空紫外光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法及びパターン形成方法 2008/12/19 2018/03/14 防衛省
109 特願2002-316235 特許第4113944号 調整処理加工撮像方法及び装置 コモンズ 2014/07/07 2018/03/20 情報通信研究機構
110 特願2002-036010 特許第4124417号 ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法 コモンズ 2003/10/01 2018/03/16 科学技術振興機構(JST)
111 特願2001-377075 特許第4042893号 無機多層レジストのイオンビーム注入リソグラフィーによるSi半導体微細構造体の加工方法 実績あり 2008/06/13 2019/04/19 関西学院大学
112 特願2000-285573 特許第4565171号 距離測定装置及びその方法 コモンズ 2011/08/18 2013/04/23 静岡大学
113 特願2000-098812 特許第3827912号 全方向ステレオ画像撮影装置及びステレオ画像撮影装置 実績あり 2011/06/08 2015/09/09 科学技術振興機構(JST)

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