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※未公開特許出願は対象外です。


該当件数 6件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
掲載日
更新日
データ提供機関
1 特願2010-217084 特許第5442572号 荷電粒子ビーム装置、薄膜作製方法、欠陥修正方法及びデバイス作製方法 2012/04/17 2018/01/16 科学技術振興機構(JST)
2 特願2010-013141 特許第5572403号 多孔質プラチナ粒子の製造方法 2011/08/10 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
3 特願2010-013142 特許第5501006号 結晶性プラチナ粒子を製造するための方法 2011/08/10 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
4 特願2010-090578 特許第5618599号 パターンの形成方法 2011/07/14 2018/01/15 科学技術振興機構(JST)
5 特願2009-013409 特許第5299903号 ケイ素粒子層の形成方法およびシリコン膜の形成方法 2011/07/12 2013/10/01 科学技術振興機構(JST)
6 特願2009-003554 特許第5604044号 高次シラン組成物および膜付基板の製造方法 2011/07/11 2018/01/25 科学技術振興機構(JST)

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