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(In Japanese)Cu系高温超伝導薄膜の作製および特性

Research report code R000000526
Posted date Sep 30, 2002
Researchers
  • (In Japanese)Sundaresan Athinarayanan
  • (In Japanese)J.C. Nie
  • (In Japanese)河村 政宏
  • (In Japanese)河村 政宏
  • (In Japanese)平井 学
  • (In Japanese)石浦 由美子
  • (In Japanese)藤原 真吾
  • (In Japanese)伊原 英雄
Affiliation
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
  • (In Japanese)科学技術振興事業団 戦略的基礎研究推進事業
  • (In Japanese)東京理科大学
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所電子基礎部)
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
Research organization
  • (In Japanese)経済産業省 産業技術総合研究所(旧電子技術総合研究所)
  • (In Japanese)科学技術振興事業団 戦略的基礎研究推進事業
  • (In Japanese)東京理科大学
Report name (In Japanese)Cu系高温超伝導薄膜の作製および特性
Technology summary (In Japanese)Cu系の超伝導薄膜((Cu1-xTlx)Ba2Ca2Cu3Oy:(Cu,Tl-1223),(Cu1-xTlx)Ba2Ca3Cu4Oy:(Cu,Tl-1234))を作製するのにアモルファス相エピタキシー法(APE)と自己形成エピタキシー法(SAE)を適用した。APE法では,SrTiO3基板上に高周波マグネトロンスパッタリングでCu,Tl-1223とCu,Tl-1234アモルファス膜を形成し,銀カプセル中でアニールして,単相および二軸配向薄膜を得た。膜のTc域は105~118K間にあり,Jcの磁場依存性は図1にある。TcおよびJc共にYBCOのそれより高かった。SAE法では,TlBa2CuO5-y:(1201)とCaCuO2の2種のターゲットを用いた。1201は基板と格子が略一致し,SrTiO3(100)基板上に超格子が成長し,X線回折(図2)での検証により超格子のλ(=1.868nm)はCu,Tl-1234のそれに近いことが分った。更に,CaCuO2とSrxCa1-xCuO2は面内の格子定数が良く一致するため,[CaCuO2]m/[SrxCa1-xCuO2]nの人工超格子を成長させた。同様にX線回折(図3)から正方晶の無限層構造を形成していることが分った。
Drawing

※Click image to enlarge.

R000000526_01SUM.gif R000000526_02SUM.gif R000000526_03SUM.gif
Research field
  • Crystal structure of metal oxides and chalcogenides
  • Techniques and equipment of thin film deposition
  • Oxide thin films
  • Properties of oxide superconductors
  • Properties of ceramics and ceramic whiteware
Research project
  • Core Research for Evolutional Science and Technology;Function Evolution of Materials and Devices based on Electron/Photon Related Phenomena
Information research report
  • (In Japanese)Sundaresan. A,J.C. Nie,河村 政宏,平井 学,石浦 由美子,藤原 真吾,伊原 英雄. Preparation and Properties of Cu-based High-Tc Superconducting Thin Films. 戦略的基礎研究推進事業「電子・光子等の機能制御」The First CREST Symposium on ''Function Evolution of Materials and Devices based on Electron/Photon Related Phenomena'',2000. p.35 - 35.

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