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(In Japanese)100万ボルト電子波干渉型電子顕微鏡の開発と応用

Research report code R000000504
Posted date Sep 30, 2002
Researchers
  • (In Japanese)外村 彰
Affiliation
  • (In Japanese)日立製作所
Research organization
  • (In Japanese)日立製作所
Report name (In Japanese)100万ボルト電子波干渉型電子顕微鏡の開発と応用
Technology summary (In Japanese)デバイス,材料,バイオなどの諸分野で必要とされる新技術への研究開発を支援するため,高い空間分解能と電子の「波」としての性質を利用したホログラフィー干渉計測法を特徴とする加速電圧100万ボルト電子顕微鏡を開発した。その外観を図1に示す。この装置は,電界放出電子銃の採用により世界最高の干渉性(輝度と単色性)と格子分解能の世界記録(49.8ピコメートル)を達成している。また,原子レベルの像観察にとどまらず,ホログラフィー干渉計測法によるナノスケール領域の電場,磁場の測定,量子力学的現象の観測から新たな技術開発・探索に貢献することを目指している。特に本装置によるローレンツ顕微法は高温超伝導体中の磁束量子の動きを観測できる唯一の方法として,材料実用化の鍵を握る磁束ピン止め現象の研究に新たな展開をもたらす。現在,高温超伝導体の磁束量子の挙動を温度や磁場を変化させて調べている。100万ボルト電子波干渉型電子顕微鏡の構成図(図2)及びその輝度と加速電圧の関係(図3)を示した。
Drawing

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R000000504_01SUM.gif R000000504_02SUM.gif R000000504_03SUM.gif
Research field
  • Particle optics in general
  • Electron and ion sources
  • Electron and ion microscopes
  • Properties of oxide superconductors
Research project
  • Core Research for Evolutional Science and Technology;Phenomena of Extreme Conditions
Information research report
  • (In Japanese)外村 彰. 100万ボルト電子波干渉型電子顕微鏡の開発と応用. 戦略的基礎研究推進事業「極限環境状態における現象」兼平成8年度採択研究課題終了シンポジウム 講演要旨集,2001. p.34 - 35.

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