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(In Japanese)光照射による薄膜表面への微細パターン形成

Research report code R013000377
Posted date Oct 1, 2003
Researchers
  • (In Japanese)福田 隆史
  • (In Japanese)松田 宏雄
Affiliation
  • (In Japanese)独立行政法人 産業技術総合研究所光技術研究部門
  • (In Japanese)独立行政法人 産業技術総合研究所光技術研究部門
Research organization
  • (In Japanese)独立行政法人 産業技術総合研究所光技術研究部門
Report name (In Japanese)光照射による薄膜表面への微細パターン形成
Technology summary (In Japanese)ナノ微結晶の配向制御やパターニングを可能とするため,光励起表面レリーフ形成現象についてその可能性を検討した。図1に示すように,光の集光や干渉を利用してミクロンレベルでの微細な現象を制御することが可能となったが,目標とする微粒子サイズと比較するとまだ十分微細であるとは言えない。そこで,今回我々は“光の波長サイズを下回るスケール”での微細パターン形成を図るため,近接場光を励起光源として用いた。図2はその結果の一例であり,200nm の開口を有するプローブを用いることによって直径(あるいは線幅)200nm~300nmのドット(またはライン)が形成できることがわかり,近接場光を励起光源とするこの方法が機能することを確認した。現在,より微小な開口を有するプローブを用いてさらなる微小化を進めている。
Research field
  • Light sources
  • Crystallography in general
  • Crystal binding
Research project
  • Core Research for Evolutional Science and Technology;Creation and Functions of New Molecules and Molecular Assemblies
Information research report
  • (In Japanese)福田 隆史,松田 宏雄. 光照射による薄膜表面への微細パターン形成. 戦略的基礎研究推進事業 分子複合系の構築と機能 平成13年度シンポジウム,2001. p.47 - 47.

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