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非晶質状炭素膜の表面改質方法

Seeds code S120008016
Posted date 2012年1月18日
Researchers
  • 平栗 健二
  • 金杉 和弥
  • 星野 祐太
Name of technology 非晶質状炭素膜の表面改質方法
Technology summary 不活性ガス(Arなど)を用いて非晶質状炭素膜(例、DLC膜)の表面をエッチング(たとえば、プラズマエッチング)処理し、さらにその表面をシランカップリング剤(例、アミノシラン(APS))を用いて表面処理(浸漬)する非晶質状炭素膜の表面改質方法である。この方法によりシランカップリング剤を用いた表面改質の有効性が向上する。DLC膜は、基板(Si、ポリマー、金属、セラミックなど)上にメタンを炭素源として高周波プラズマ化学気相成長(CVD)装置により製膜される。また、使用可能なシランカップリング剤としては、3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシランなどがある。図は、非晶質状炭素膜が基板表面上に形成されている例を示す。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2009-050836.GIF
Research field
  • 無機化合物の薄膜
  • 固体デバイス一般
Seeds that can be deployed シランカップリング剤を用いた表面改質の有効性を向上できる非晶質状炭素膜の表面改質方法を提供する。
非晶質状炭素膜のシランカップリング剤を用いた表面改質の有効性を向上できる。
Usage Use field 非晶質炭素膜(DLC膜)、医療用デバイス
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) 学校法人東京電機大学, . 平栗 健二, 金杉 和弥, 星野 祐太, . 非晶質状炭素膜の表面改質方法. 特開2010-202466. 2010-09-16
  • C01B  31/02     
  • C23C  16/27     

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