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FURAN RING-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND USE OF THE SAME

Seeds code S100002038
Posted date Oct 6, 2010
Researchers
  • (In Japanese)大江 浩一
  • (In Japanese)三木 康嗣
  • (In Japanese)和志武 洋祐
  • (In Japanese)植村 榮
Name of technology FURAN RING-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND USE OF THE SAME
Technology summary (In Japanese)式(I)で表されるフラン環含有高分子化合物である。[式中、点線で表される部分はシクロプロパン環又は二重結合、R1とR2は水素原子、アルキル基、-(CH2OCH2q-OR11(R11はアルキル基、qは1~8の整数)のいずれかを示す。R1とR2が一緒になって炭素数3以上のアルキレンを形成してもよい。R3とR4はアルキル基、アルコキシル基、水酸基、ハロゲン原子、R5は水素原子、-COR12(R12はアルキル基)、-COOR13(R13はアルキル基)、R6は水素原子、アルキル基、(置換)アリール基、lとmは0~4の整数、l+mは0~4の整数、nは2以上の整数である]フラン環含有高分子化合物の数平均分子量は5000~10000である。高分子化合物の製造方法は式2に示され、ホスフィンと触媒量のロジウム錯体等の遷移金属錯体の存在下、重縮合反応を行う。このフラン環含有高分子化合物を有機発光素子材料又は有機トランジスタ材料として使用する。
Drawing

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thum_2003-310440_1.gif thum_2003-310440_2.gif
Research field
  • Polyaddition
  • Polymeric materials in general
  • Materials of solid‐state devices
Seeds that can be deployed (In Japanese)共役エンインカルボニル化合物と遷移金属錯体とから発生する非安定型の2-フリルカルベン錯体のカルベン部分を重合反応の反応点として利用し、有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などとしての利用が期待される高分子化合物を提供する。
フラン環含有高分子化合物は、フラン環が分子中に規則的に導入された化合物であり、分子量分散が正規分布を示し、薄膜材料としての加工性や耐熱性に優れた有機発光素子材料や有機トランジスタ材料などとしての利用が期待される。このフラン環含有高分子化合物は、数多くの誘導体を、対応する反応性モノマーの触媒的重合反応により簡便かつ安価に製造することができる。
Usage Use field (In Japanese)有機発光素子材料、有機トランジスタ材料
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人京都大学, . (In Japanese)大江 浩一, 三木 康嗣, 和志武 洋祐, 植村 榮, . FURAN RING-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND USE OF THE SAME. P2005-075984A. Mar 24, 2005
  • C08G  61/12     
  • C08G  67/00     
  • H01L  51/50     

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