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METHOD FOR MANUFACTURING FILM OF TIN-NICKEL ALLOY

Seeds code S100002615
Posted date Nov 5, 2010
Researchers
  • (In Japanese)兼松 秀行
  • (In Japanese)小林 達正
  • (In Japanese)沖 猛雄
Name of technology METHOD FOR MANUFACTURING FILM OF TIN-NICKEL ALLOY
Technology summary (In Japanese)方法は、所定の基板上に、ニッケル層とすず層とをそれぞれ順次に析出させて、ニッケル層とすず層とからなる多層膜を形成する。次いで、ここの多層膜をすずの融点以上の温度で加熱し、すずの液相拡散を利用することにより、Ni3Sn相、Ni3Sn2相及びNi3Sn4相を含み、非平衡NiSn相を含まない、装飾用の安定なすずーニッケル合金膜を製造する。加熱によるすず元素及びニッケル元素の拡散を通じて合金膜を製造するため、たたとえ非平衡なNiSnが生成したとしても、加熱拡散過程における加熱によって安定な平衡相へ移行してしまい、非平衡なNiSn相が含まれなくなる。
Research field
  • Electrolytic equipment
  • Electroplating
  • Metallic thin films
Seeds that can be deployed (In Japanese)非平衡NiSn相を含まない安定なすずーニッケル合金膜を製造する方法を提供する。
非平衡NiSn相を含まないので、すずーニッケル合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによる合金膜の特性変化を抑制することができ、この合金膜に付与した機能性を長時間に亘って維持することができる。
Usage Use field (In Japanese)装飾用クロムめっき代替めっき
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)鈴鹿工業高等専門学校, . (In Japanese)兼松 秀行, 小林 達正, 沖 猛雄, . METHOD FOR MANUFACTURING FILM OF TIN-NICKEL ALLOY. P2002-129375A. May 9, 2002
  • C25D   5/50     
  • C25D   7/00     

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