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METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM

Seeds code S100002619
Posted date Nov 5, 2010
Researchers
  • (In Japanese)兼松 秀行
  • (In Japanese)増尾 嘉彦
  • (In Japanese)沖 猛雄
Name of technology METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM
Technology summary (In Japanese)方法は、所定の基板上に、ニッケル層とすず層とをそれぞれ順次に、ニッケル層を厚さ10μm~50μmに、すず層を厚さ10μm~50μmに析出させて、ニッケル層とすず層とからなる多層膜を形成する。次いで、この多層膜にレーザ光を照射することにより、すずの融点以上の温度に加熱してすず層を溶解させ、すずの液相拡散を利用して、すず-ニッケル合金膜を製造する。好ましくは、レーザ光を、150W/cm2~500W/cm2の強度で多層膜に照射し、照射時間を、5~60秒とする。またすず層及びニッケル層を、電気メッキ法により析出させ、すず-ニッケル合金膜が、Ni3Sn相、Ni3Sn2相及びNi3Sn4相の少なくとも一つを有する。これにより、電析によって各層を形成する場合の、形成条件の変動幅をある程度許容することができるとともに、非平衡なNiSnの生成を回避して短時間にすず-ニッケル合金膜を作製することができる。
Research field
  • Electrolytic equipment
  • Electroplating
  • Metallic thin films
Seeds that can be deployed (In Japanese)非平衡NiSn相を含まない安定なすず-ニッケル合金膜を製造する方法を提供する。
非平衡NiSn相を含まないので、すずーニッケル合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによる合金膜の特性変化を抑制することができ、この合金膜に付与した機能性を長時間に亘って維持することができる。
Usage Use field (In Japanese)装飾用クロムめっき代替めっき
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)鈴鹿工業高等専門学校, . (In Japanese)兼松 秀行, 増尾 嘉彦, 沖 猛雄, . METHOD OF MANUFACTURING TIN-NICKEL ALLOY FILM. P2002-180283A. Jun 26, 2002
  • C25D   5/50     

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