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RESORCINOL NOVOLAK DERIVATIVE

Seeds code S100003102
Posted date Nov 5, 2010
Researchers
  • (In Japanese)小西 玄一
  • (In Japanese)田島 崇嗣
  • (In Japanese)中本 義章
Name of technology RESORCINOL NOVOLAK DERIVATIVE
Technology summary (In Japanese)式(2)で表されるレゾルシノール誘導体と、式(3)で表されるベンズアルデヒド誘導体とを酸触媒の下に反応式(4)により付加縮合して製造する式(1)で表されるくり返し単位からなり線状であるレゾルシノールノボラック誘導体である。ただし、式中R1は、炭素数1~18のアルキル基、炭素数2~18のアルケニル基、フェニル基、炭素数1~18のアルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基のいずれかである。R2は、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数2~18のアルケニル基、フェニル基、メトキシ基、炭素数2~18のアルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基のいずれかである。R3は、ニトロ基、tert-ブチル基、iso-ブチル基、neo-ペンチル基、フェニル基、アルコキシ基、カルボキシル基のいずれかである。R4~R7は、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数2~18のアルケニル基、フェニル基、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基のいずれかである。(レゾルシノールノボラック)誘導体のフェノール性水酸基にエピクロロヒドリンを反応させエポキシ誘導体である。
Drawing

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Research field
  • Manufacturing and its equipment
  • Polymeric materials in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)高分子量でかつ線状(一次元直鎖状)構造であるレゾルシノールノボラック誘導体を提供する。
構造欠陥や分岐がなく、分子量数万を超える高分子が、一般的なフェノール樹脂の合成法で容易に得られる。線状高分子は、各種有機溶媒への優れた溶解性を示す。また、ベンズアルデヒドの2位(R3の場所)に極性官能基又はかさ高いアルキル基を置くことで、環状オリゴマーであるカリックスアレーンの形成を防ぐことができ、分子量の高いノボラックを得ることができる。電子吸引性の置換基を持つベンズアルデヒドは、付加縮合反応性が高くなり、レゾルシノールノボラックの高分子量化に有利で、ニトロ基を有するベンズアルデヒドが適している。
Usage Use field (In Japanese)レゾルシノ-ルノボラツク
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人金沢大学, . (In Japanese)小西 玄一, 田島 崇嗣, 中本 義章, . RESORCINOL NOVOLAK DERIVATIVE. P2006-131852A. May 25, 2006
  • C08G   8/04     
  • C08G  59/08     

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