Top > Search Technology seeds > METHOD FOR PREPARING THIN GOLD FILM FLAT AT ATOMIC LEVEL

METHOD FOR PREPARING THIN GOLD FILM FLAT AT ATOMIC LEVEL

Seeds code S100003149
Posted date Nov 5, 2010
Researchers
  • (In Japanese)肥後 盛秀
Name of technology METHOD FOR PREPARING THIN GOLD FILM FLAT AT ATOMIC LEVEL
Technology summary (In Japanese)方法は、高真空中で500~600℃の加熱による前処理を行った雲母基板上に、高真空中、蒸着温度470~476℃、蒸着速度1.8~2.2nm/s、膜厚130~170nmの条件で真空蒸着法により、原子レベルで平坦な表面を持つ金薄膜を作製する。原子レベルで平坦とは、1μm×1μmにおける二乗平均粗さ(Rms)や表面高さ分布(Bearing Histogram)のピークの半値幅(W)が原子0.5~2個の大きさに相当する表面をいう。雲母は、海緑石、金雲母、黒雲母、白雲母およびマイカなどが挙げられる。雲母基板は、例えば1~8×10-6Torrの高真空中において前処理し、蒸着は、例えば1~3×10-6Torrの高真空中で行う。Rmsの値が0.24nmであり、金原子1個の直径(0.29nm)よりも小さく、また表面高さ分布のピークも鋭く(W=0.46nm)、金薄膜の全表面に渡って平坦である例を示す。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2002-313636.gif
Research field
  • Techniques and equipment of thin film deposition
  • Metallic thin films
Seeds that can be deployed (In Japanese)操作の簡単な真空蒸着法において、雲母基板の前処理温度及び蒸着の際の蒸着温度、蒸着速度、膜厚等を特定の範囲とすることにより、雲母基板上に広い範囲で、原子レベルで平坦な金薄膜を作製する方法を提供する。
原子レベルで平坦な表面を持つ金薄膜を基板として利用すれば、空気中や水中において金薄膜表面に存在する試料(被測定物)の詳細な形態観察ができる。また平坦性が良いために、表面高さ分布が正確に測定でき、表面に存在する物質の体積を求めることができる。更に、反射分光分析法においても利用できる。
Usage Use field (In Japanese)反射分光分析反射鏡、反射分光分析用基板 走査プローブ顕微鏡用基板
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人 鹿児島大学, . (In Japanese)肥後 盛秀, . METHOD FOR PREPARING THIN GOLD FILM FLAT AT ATOMIC LEVEL. P2004-149818A. May 27, 2004
  • C23C  14/14     
  • C23C  14/24     
  • G02B   5/08     

PAGE TOP