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PLASMA CONTROL METHOD AND PLASMA CONTROL UNIT

Seeds code S100004004
Posted date Dec 6, 2010
Researchers
  • (In Japanese)西山 秀哉
  • (In Japanese)佐藤 岳彦
  • (In Japanese)片桐 一成
Name of technology PLASMA CONTROL METHOD AND PLASMA CONTROL UNIT
Technology summary (In Japanese)プラズマ生成装置においては、プラズマジェット発生装置11の前方に磁場発生手段12が設けられている。さらに、プラズマジェット発生装置11から発射されたプラズマジェットPの特性をモニタリングするための測定部13、及びこのモニタリング情報に基づいて磁場発生手段12を制御するためのPID制御部14が設けられている。モニタリングした物理特性に関するモニタリング情報及び画像情報は互いに相関させ、得られた相関情報がPID制御部14に送られる。その後、PID制御部14から磁場発生手段12に対して所定の制御信号が送られ、所定の磁場がプラズマジェットPに印加される。このように、測定部13によってプラズマジェットPの経時的な特性変動を正確にモニタリングでき、磁場発生手段12の制御を通じて磁場の強度などを適宜に調節し、プラズマジェットPをリアルタイムで制御し、長期間より安定させることができる。したがって、プラズマジェットPが非定常場におかれたような場合においても、プラズマジェットPの特性変動をリアルタイムでモニタリングできるため、その不安定挙動を抑制して、安定化させることができる。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2003-345672.gif
Research field
  • Plasma devices
  • Plasma flows, magnetohydrodynamics of plasma
  • Cameras and their accessories
Seeds that can be deployed (In Japanese)プラズマジェットの非定常場での不安定挙動を簡易に制御する。
プラズマジェットの経時的な特性変動を正確にモニタリングできるようになり、磁場発生手段の制御を通じてプラズマジェットをリアルタイムで制御し、長期間より安定させることができる。
Usage Use field (In Japanese)プラズマ流計測
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人東北大学, . (In Japanese)西山 秀哉, 佐藤 岳彦, 片桐 一成, . PLASMA CONTROL METHOD AND PLASMA CONTROL UNIT. P2005-116217A. Apr 28, 2005
  • H05H   1/40     
  • H05H   1/00     

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