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マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置


シーズコード	S110005122
掲載日	2011年1月4日
研究者	安井利明
技術名称	マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置
技術概要	皮膜を形成する方法は、プラズマ形成ガス１０６と溶射粒子１０７とを空洞共振器１０１の中心に据えられた中空アンテナ１０２を通じてその先端に供給し、空洞共振器に投入したマイクロ波でアンテナ先端に強電場を生成させることによりプラズマ１１０を発生させ、その熱でもって溶射粒子を溶融し、下流に置かれた基材１１２に吹き付ける。溶射方法は、溶射粒子として例えば数μｍ以下のＡｌ等の粒子を用い、中空アンテナ内から作動ガスとともにエアロゾル化した溶射粒子を供給する。マイクロ波プラズマトーチは、Ｗ－Ｃｕ合金等の耐熱性と熱伝導性に優れた金属で作られた中空アンテナに用いることにより、中空アンテナ先端に局所的な絶縁破壊を起こし、高温プラズマの生成を可能にする。又は、中空アンテナを囲むように石英ガラス管等のガラス管１０９を設置し、その内部にプラズマ制御ガス１０８を流すことにより、プラズマの安定を図る。れによっり、１０００℃以上の高温プラズマの生成が可能にであり、またアンテナの周囲に制御ガスを流すことによる熱ピンチ作用で、更に高温なプラズマを安定に生成することが可能である。
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研究分野	溶射
展開可能なシーズ	固体の溶射原料粉末を供給し、それをマイクロ波プラズマにより加熱溶融し、加速し、皮膜を形成する方法、溶射方法及びマイクロ波プラズマトーチを提供する。通常絶縁破壊が難しい窒素などの２原子分子ガスでも、容易にプラズマの生成が可能である。またマイクロ波プラズマトーチとして高温の熱プラズマ熱源として利用可能であると共に、金属やセラミックの溶射装置として利用可能である。
用途利用分野	金属溶射装置、セラミック溶射装置、マイクロ波プラズマトーチ
出願特許		特許	国際特許分類(IPC)
出願特許	( 1 )	国立大学法人豊橋技術科学大学， . 安井利明， . マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置. 特開2007-002273. 2007-01-11	C23C 4/12 H05H 1/30