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(In Japanese)イオンビームによる表面処理方法および表面処理装置

Seeds code S110005197
Posted date Jan 4, 2011
Researchers
  • (In Japanese)高岡 義寛
Name of technology (In Japanese)イオンビームによる表面処理方法および表面処理装置
Technology summary (In Japanese)常温常圧で液体の物質をイオン化して形成したイオンビームを基材表面に照射する。常温及び常圧で液体の物質のクラスターを生成するための真空容器であるソースチャンバ1を有する。ソースチャンバ1で生成されたクラスターを小さい開口を有するスキマー10を通過させて細いビーム状にする。形成されたクラスタビームをイオン化し、質量分離によって構成分子数が選別されたクラスターイオンビームを基板表面に照射する。 物質の中から目的とする基材の表面処理に適した物質をイオン発生源の材料として選択することにより(例えば、基材表面のエッチングを行う場合のように、エッチャントである液体が最終的に基材表面から除去されることを望む場合は揮発性の高い液体を選択し、基材表面に液体を吸着や付着させたい場合は、吸着や付着させたい液体を選択すればよい)、常温および常圧で固体や気体の物質をイオン発生源の材料として利用する既存の表面処理方法ではなし得なかったり困難であったりした表面処理が可能となる。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2005-506500.gif
Research field
  • Vacuum, highpressure operation
  • Surface treatment
  • Special machining
Seeds that can be deployed (In Japanese)常温および常圧で液体の物質を用いた、これまでにない基材の表面清浄化や表面加工を行うための表面処理方法および表面処理装置を提供する。
基材表面の親・疎水性や潤滑性等の制御や付加・置換反応による表面改質を行うことができる。また、流動性のような液体特有の性質を基材表面で発現させることもできる。微視的な均一性に基づいて、湿式によって行った表面処理結果と異なる結果の取得や、湿式では行うことができない表面処理を行うことができる。
Usage Use field (In Japanese)クラスターイオンビーム表面処理方法、アルコール溶液、酸性溶液
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人京都大学, . (In Japanese)高岡 義寛, . (In Japanese)イオンビームによる表面処理方法および表面処理装置. . Aug 17, 2006
  • B08B   7/00     
  • B08B   3/08     
  • H01L  21/304    

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