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METHOD FOR PRODUCING ANISOTROPIC POLYMER FINE PARTICLE

Seeds code S110005724
Posted date Jan 14, 2011
Researchers
  • (In Japanese)藪 浩
  • (In Japanese)樋口 剛志
  • (In Japanese)下村 政嗣
  • (In Japanese)田島 孝訓
Name of technology METHOD FOR PRODUCING ANISOTROPIC POLYMER FINE PARTICLE
Technology summary (In Japanese)溶解度パラメータの差が0.1MPa1/2以上10MPa1/2以下である2種以上のポリマー〔ポリスチレン(溶解度パラメータは18MPa1/2)とポリイソプレン(溶解度パラメータは16~17MPa1/2)〕をポリマーに対する良溶媒〔THF(溶解度パラメータは18.6MPa1/2)〕に溶解した良溶媒溶液に良溶媒と相溶する2種以上のポリマーに対する貧溶媒〔水(溶解度パラメータは47.9MPa1/2)〕を添加して良溶媒と貧溶媒の混合溶液を調製する。混合溶液から良溶媒を蒸発除去して2種以上のポリマーからなる多相ポリマー微粒子を形成させる。多相ポリマー微粒子を形成する一部のポリマーを選択的に除去する(溶媒に対する溶解度の差を利用した溶媒処理などことにより、異方性ポリマー微粒子を製造する。異方性ポリマー微粒子は、形状的な異方性(asymmetrical)で、球状粒子とは異なる光散乱特性を有している。
Drawing

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Research field
  • Polymeric materials in general
  • Manufacturing and its equipment
Seeds that can be deployed (In Japanese)簡便で使用可能な原料の選択幅を広げた、異方性ポリマー微粒子の製造方法を提供する。
ポリマーを溶媒に溶解するという極めて簡便な操作で、異方性ポリマー微粒子を製造することができる。この異方性ポリマー微粒子は球状粒子とは異なる光散乱特性を有しており、光散乱フィルム材料や、塗料あるいは化粧品への添加剤として利用できる。
Usage Use field (In Japanese)光散乱フィルム材料、塗料添加剤、化粧品添加剤
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人北海道大学, . (In Japanese)藪 浩, 樋口 剛志, 下村 政嗣, 田島 孝訓, . METHOD FOR PRODUCING ANISOTROPIC POLYMER FINE PARTICLE. P2008-074915A. Apr 3, 2008
  • C08J   3/14     

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