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SHEATH GAS INTRODUCTION TYPE SPRAY CHAMBER COPING WITH WHOLE QUANTITY INTRODUCTION TYPE NEBULIZER

Seeds code S110005908
Posted date Oct 5, 2011
Researchers
  • (In Japanese)小椋 康光
  • (In Japanese)宮山 貴光
  • (In Japanese)鈴木 和夫
Name of technology SHEATH GAS INTRODUCTION TYPE SPRAY CHAMBER COPING WITH WHOLE QUANTITY INTRODUCTION TYPE NEBULIZER
Technology summary (In Japanese)スプレーチャンバー1は、内管2と、この内管の外側に配置される外管3とを有して構成されている。このスプレーチャンバーは外管3から導入されるガスを導入してシースガスを形成し、ネブライザーから供給される試料をシースガスによって包み込むことによりプラズマトーチ側へと確実に導く。なお、ネブライザーから供給される試料は一般にアルゴンガス中に霧化した状態で分散されてスプレーチャンバーに導入されるため、以下ネブライザーガスという場合は霧化した状態の試料が分散した状態のアルゴンガスをいう。なおシースガスはアルゴンガスからなるガスであって、試料の燃焼効率を高める場合には必要に応じて酸素を含有していてもよい。本スプレーチャンバー1は内管2の周囲に外管3が配置された二重管構造となっている。本スプレーチャンバー1の一端近傍はネブライザーガスを導入するための導入部21となっており、外部の全量導入型ネブライザーに接続可能に構成されている。これに対し他の一端近傍は、導入したネブライザーガスをプラズマトーチに導入するための出力部22となっており、これと接続可能に構成されている。
Drawing

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thum_2005-059499.gif
Research field
  • Plasma diagnostics
Seeds that can be deployed (In Japanese)試料の損失を抑える全量導入型ネプライザー対応のスプレーチャンバー、更には、試料導入が経時的に安定する全量導入型ネブライザー対応のスプレーチャンバー、を提供する。
単なる連結管としての機能しか持たない従来型のスプレーチャンバーを、シースガスを流入させるような二重管構造に改良し、霧化した試料を積極的に効率よくかつ安定してプラズマトーチの中心に導入する。すなわち、内管にて霧化された試料を、外管から導入したアルゴンのシースガスで包み込むようにプラズマトーチ内へと試料を導入する。これによって、試料の損失を抑えた全量導入型ネプライザー対応のスプレーチャンバー、更には、試料導入が経時的に安定した全量導入型ネブライザー対応のスプレーチャンバー、を提供することが可能となる。
Usage Use field (In Japanese)誘導結合プラズマ発光分光装置(ICP-AES)、誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP-MS)、全量導入型ネブライザー対応シースガス導入型スプレーチャンバー
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人 千葉大学, . (In Japanese)小椋 康光, 宮山 貴光, 鈴木 和夫, . SHEATH GAS INTRODUCTION TYPE SPRAY CHAMBER COPING WITH WHOLE QUANTITY INTRODUCTION TYPE NEBULIZER. P2006-242769A. Sep 14, 2006
  • G01N  27/62     
  • H01J  49/04     

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