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MICROPOROUS TITANIA FILM AND ITS PRODUCING METHOD

Seeds code S110006710
Posted date Dec 5, 2011
Researchers
  • (In Japanese)村上 泰
  • (In Japanese)松本 太輝
  • (In Japanese)清水 航
Name of technology MICROPOROUS TITANIA FILM AND ITS PRODUCING METHOD
Technology summary (In Japanese)微細空孔全体の80体積%以上が直径2nm以下のミクロ孔であることを特徴とするチタニアミクロ多孔膜であり、その製造方法は次のとおりである。チタニウムアルコキシド、アルコール溶液、1-ペンテン-3-オールおよび水とを、チタニウムアルコキシドに対する水のモル比が0.5以上2.0未満の範囲になるように混合する混合工程(ステップS101~ステップS103)と、その混合工程により得られるコロイドゾルを用いて成膜する成膜工程(ステップS104)と、成膜工程後に加熱する加熱工程(ステップS106)とを有するチタニアミクロ多孔膜の製造方法。
Drawing

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thum_2007-009764.GIF
Research field
  • Oxide thin films
Seeds that can be deployed (In Japanese)主にミクロ孔からなる微細空孔を有するチタニアミクロ多孔膜を得る方法を提供する。
セラミックス多孔質材料は、耐熱性、耐薬品性、軽量性に優れているため、フィルター、触媒担体、分離膜、吸着材などの広い分野で利用されている。特に、直径2nm以下のミクロ孔を有する多孔体(ミクロ多孔体)は、逆浸透、ガス分離のような分離技術の分野にて重要な材料である。更に、その微細空孔を利用した分離膜およびその高い比表面積を利用した化学反応基体として、例えば光触媒材料、腐食作用の強い環境下で使用する分離膜などに利用可能である。
Usage Use field (In Japanese)機能性多孔材
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人信州大学, . (In Japanese)村上 泰, 松本 太輝, 清水 航, . MICROPOROUS TITANIA FILM AND ITS PRODUCING METHOD. P2008-174419A. Jul 31, 2008
  • C04B  38/00     
  • C04B  35/622    
  • C01B  13/32     
  • C01G  23/04     
  • C01B  37/00     

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