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光触媒材料の製造方法


シーズコード	S110007115
掲載日	2011年12月20日
研究者	藤野 ▲隆▼由
技術名称	光触媒材料の製造方法
技術概要	基材本体表面に光触媒能を有する二酸化チタン皮膜を形成し、この皮膜に過マンガン酸塩水溶液中で光照射して、二酸化チタン上に二酸化マンガンを担持して得る二酸化チタンー二酸化マンガン（ＴｉＯ^２２／ＭｎＯ^２）複合光触媒皮膜基材およびその製造方法であって、基材本体としては、金属、ガラス及びセラミック等の板状、粒子状又は繊維状のものを用いる。以下は、光触媒皮膜基材の製造工程における好適要件または採用可能要件である。（１）過マンガン酸塩の濃度が１×１０^－３～２ｍｏｌ／Ｌであること。（２）過マンガン酸塩水溶液の温度が０～１００℃であること。（４）光照射が、２２０～４００ｎｍの紫外線で１～７２００分の照射であること。（５）基材本体表面に二酸化チタン皮膜を形成する工程が、マグネシウム基材を、チタン酸塩と過酸化水素の混合溶液に浸漬し化成処理する工程である。（６）この工程（５）が、得られたマグネシウム基材を熱処理する工程を有すること。（７）この工程（６）のマグネシウム基材が、純マグネシウム、又はＡＺ９１、ＡＺ６１、ＡＺ３１、ＡＺ８０及びＡＭ６０系合金であること。その他の好適要件がある。
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研究分野	反応操作（単位反応）触媒操作塩基，金属酸化物
展開可能なシーズ	高い触媒活性の光触媒を、安価で且つ容易に、皮膜形成してなる複合光触媒皮膜基材及びその製造方法を提供する。二酸化チタンに二酸化マンガンをカップリングすることにより、触媒機能を高めた二酸化チタン－二酸化マンガンの複合光触媒皮膜基材が製造できる。また、この製造工程では、白金やパラジウム等の貴金属を使用せずに、目的の複合光触媒皮膜基材を得ることができる。また、複合光触媒皮膜基材の皮膜は、可視光全領域に一定の吸収が認められる。
用途利用分野	汚染防止板材、汚染防止ガラス、汚染防止セラミックス材、空気清浄装置、親水性塗料
出願特許		特許	国際特許分類(IPC)
出願特許	( 1 )	学校法人近畿大学， . 藤野 ▲隆▼由， . 光触媒材料の製造方法. 特開2007-216197. 2007-08-30	B01J 35/02 B01J 23/34 B01J 37/02 B01J 37/08 B01J 37/34

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技術名称	PHOTOCATALYTIC FILM, PHOTOCATALYTIC MATERIAL AND METHODS FOR MANUFACTURING THEM
研究分野	Unit process Catalytic process Bases, metal oxides