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光触媒皮膜及びその製造方法


シーズコード	S110007116
掲載日	2011年12月20日
研究者	藤野隆由
技術名称	光触媒皮膜及びその製造方法
技術概要	多孔性の陽極酸化皮膜を、チタニル酸塩と、チタニルと陽イオン錯体を形成する錯化剤と、を含む混合浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の表面及び孔内２１面に、二酸化チタンを析出させて二酸化チタン皮膜を形成し、焼成して得る、二酸化チタン光触媒皮膜３と、その製造方法である。以下は、光触媒皮膜の構成および製造工程における好適要件または採用可能要件である。（１）前記焼成処理工程の後に、光触媒皮膜を、酸化還元電位が＋１．０Ｖ以上の酸化力を有する酸化剤の水溶液中で、光照射に晒して、酸化剤由来の金属酸化物を、析出させて、光触媒皮膜の二酸化チタンに担持させる。（２）チタニル電解処理工程前に、多孔性の陽極酸化皮膜を、金属塩の浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体を析出させ、焼成処理工程の熱拡散によって、金属単体を二酸化チタンに担持させる。（３）焼成処理工程の後、光触媒皮膜を、酸化還元電位が＋１．０Ｖ以上の酸化力を有する酸化剤と、金属塩と、を含む混合浴中で、光照射に晒して、酸化剤由来の金属酸化物と、金属単体と、を析出させて、光触媒皮膜の二酸化チタンに担持させる。その他の好適要件がある。
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研究分野	反応操作（単位反応）触媒操作塩基，金属酸化物
展開可能なシーズ	高い光触媒能を有し、基板に密着性良く、且つ簡単に形成することができる、光触媒皮膜と、その製造方法を提供する。光触媒皮膜が陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されるので、基板の単位面積当たりの、光触媒皮膜の反応表面積を非常に大きくすることができる。また、二酸化チタンが金属酸化物を担持することにより、可視光を吸収して低い光エネルギーで励起電子を発生させ、しかも、その励起電子の再結合を抑制でき、光触媒皮膜は、より高い光触媒能を発揮できる。また、二酸化チタンが金属酸化物と金属単体とを担持することにより、光触媒皮膜は、さらに高い光触媒能を発揮できる。種々の陽極酸化皮膜を利用できるので、光触媒皮膜の用途範囲を拡大できる。酸化剤として過マンガン酸カリウムを、金属酸化物として二酸化マンガンを用いることができ、光触媒皮膜を安価に実現することができる。また、焼成処理工程において、二酸化チタンの結晶構造がアナタース型に変化させ、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、光触媒皮膜を形成することができる。
用途利用分野	汚染防止板材、汚染防止ガラス、空気清浄装置、色素増感型太陽電池、チタニアナノアレイ電極
出願特許		特許	国際特許分類(IPC)
出願特許	( 1 )	学校法人近畿大学， . 藤野隆由， . 光触媒皮膜の製造方法. 特開2007-325995. 2007-12-20	B01J 35/02 B01J 21/06 B01J 23/34 B01J 23/62 B01J 23/656 B01J 37/02 B01J 37/03 B01J 37/34 B01J 37/08