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(In Japanese)電子ビーム露光装置

Seeds code S120007794
Posted date Jan 5, 2012
Researchers
  • (In Japanese)木村 建次郎
  • (In Japanese)小林 圭
  • (In Japanese)山田 啓文
  • (In Japanese)松重 和美
Name of technology (In Japanese)電子ビーム露光装置
Technology summary (In Japanese)本発明の電子ビーム露光装置は、二次元の光パターン(13)を発生するためのプロジェクター(8)と、入射された光パターン(13)に基づく電子ビームアレイを生成し、その電子ビームアレイを増幅し、増幅電子ビームアレイ(14)として出射するためのマイクロチャネルプレート(11)と、増幅電子ビームアレイ(14)を集束するための電子ビームレンズ部(12)とを有する。この構成では、パターン化された増幅電子ビームアレイにより、描画パターンを高分解能、高精度かつプログラマブルに描画して形成することができる。
Drawing

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thum_2007-516201.gif
Research field
  • Manufacturing technology of solid‐state devices
Seeds that can be deployed (In Japanese)電子ビーム露光方法において、露光時間を短縮化するために、パターンを一括描画する二次元電子ビームによる一括露光方法が開発されている。しかし、電子ビームがメンブレンを通過する部分で著しく解像度が低下してしまうという課題があった。本発明では、電子ビームによる高精細な描画パターンを形成できる電子ビーム露光装置を提供すると共に、所望する二次元の描画パターンの形成を、二次元一括露光によって迅速に実現できて形成を低コスト化できる、電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。
電子ビーム露光装置は、電子ビームによる露光によって、より微細加工されて性能が向上した半導体素子を製造できる。また、電子ビーム露光装置は、露光を二次元パターンによる一括露光できるから、製造を低コスト化できる。
Usage Use field (In Japanese)電子ビーム露光装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人京都大学, . (In Japanese)木村 建次郎, 小林 圭, 山田 啓文, 松重 和美, . (In Japanese)電子ビーム露光装置. . Dec 25, 2008
  • H01L  21/027    
  • H01J  37/305    

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