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EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD

Seeds code S120007981
Posted date Jan 17, 2012
Researchers
  • (In Japanese)窪寺 昌一
  • (In Japanese)加来 昌典
Name of technology EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD
Technology summary (In Japanese)極端紫外光源1は、レーザー光6aを照射するレーザー光源6と、レーザー光源6からのレーザー光6aを照射して励起し、プラズマを生成して極端紫外光11を放射するターゲット材Tを備える。ターゲット材Tは、1の元素と、波長200nm以下の領域において第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素を少なくとも含む多元系材料である。第1の元素および第2の元素の組み合わせ合金としては、タングステンカーバイト(CとW)、銅・タングステン合金(CuとW)、リン青銅(SnとCu)、真鍮(ZnとCu)等がある。
Drawing

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thum_2009-141221.gif
Research field
  • Light sources
Seeds that can be deployed (In Japanese)波長が200nm程度以下の極端紫外光源の発光効率を高める方法において、レーザーを多重パルス化では多重パルス化の制御が必要となり、プラズマ温度や密度を制御では、比較的複雑な制御が必要となる問題があった。プラズマ温度、密度を簡便に制御して、発光効率を高める極端紫外光発生方法を提供する。
第1の元素と第2の元素との種類や含有割合を選択することにより、プラズマ温度、密度を簡便にシフトでき、発光効率を高められ、発光強度を向上し、連続的なスペクトル形状が得られる。
Usage Use field (In Japanese)極端紫外光源、極端紫外光リソグラフィー光源、極端紫外光微細加工装置、極端紫外光表面改質装置、極端紫外光分析装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人 宮崎大学, . (In Japanese)窪寺 昌一, 加来 昌典, . EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD. P2010-287479A. Dec 24, 2010
  • H05G   2/00     

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