遺伝子導入のための分子複合体の製造方法
シーズコード | S120008182 | ||
---|---|---|---|
掲載日 | 2012年1月20日 | ||
研究者 |
|
||
技術名称 | 遺伝子導入のための分子複合体の製造方法 | ||
技術概要 | この非ウイルス性ベクターは、培養細胞又は生体を構成する細胞に対し遺伝子を導入するための分子複合体であって、高分子と、細胞内でイオン化し得る無機塩と、遺伝子との混合物を高圧で処理することにより形成される分子複合体である。この高圧処理により、分子周囲の水和構造が破壊され、全体のエントロピーが減少してゲル状又は微粒子状の安定な分子複合体が得られる。高分子としては、水素結合性の官能基又は結合を有する高分子を用いることが好ましい。これらは、高圧処理によって遺伝子との間の水素結合が強調され、常圧に戻しても安定であるかもしくは崩壊の半減期が非常に長い安定な構造体を形成する。この分子複合体を用いた細胞の形質転換方法は、培養細胞に導入する場合、適切な培養液で培養した培養細胞の培地に分子複合体を加え、適切な温度で適切な時間、適切な条件下で処理(インキュベート)することによって行われる。 | ||
研究分野 |
|
||
展開可能なシーズ |
安定性、安全性に優れ、また高い遺伝子導入効率を有する非ウイルス性ベクター(分子複合体)を提供する。 遺伝子導入効率が高く、非ウイルス性ベクターとして利用可能な分子複合体を得ることができる。この分子複合体は、核酸酵素耐性を有し、また長時間にわたり遺伝子発現性を示すため、持続型のベクターとして機能する。また、血清存在下においても細胞内への遺伝子導入が可能であり、遺伝子治療に応用することが可能である。 |
||
用途利用分野 | 非ウイルス性ベクター、遺伝子治療用薬剤 | ||
出願特許 | 特許 | 国際特許分類(IPC) | |
( 1 ) | 国立大学法人 東京医科歯科大学, 国立大学法人 岡山大学, . 岸田 晶夫, 木村 剛, 吉澤 秀和, . 遺伝子導入のための分子複合体の製造方法. 特開2006-230343. 2006-09-07 |
|
英語項目の表示
技術名称 | MOLECULAR COMPLEX FOR INTRODUCING GENE |
---|---|
研究分野 |
|
『 遺伝子導入のための分子複合体の製造方法 』に関するお問合せ
- 国立大学法人 東京医科歯科大学 知的財産本部
- URL: http://www.tmd.ac.jp/tlo/
-
E-mail:
- Address:〒113-8510 東京都文京区湯島一丁目5番45号
- TEL:03-5803-4737
- FAX:03-5803-0286