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POROUS SILICA FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Seeds code S120008222
Posted date Jan 20, 2012
Researchers
  • (In Japanese)村上 泰
  • (In Japanese)清水 航
Name of technology POROUS SILICA FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
Technology summary (In Japanese)細孔径が2nm以下、鉛筆硬度が5H以上、分光エリプソメータを用いて波長655nmの光を膜表面に対して入射角75度で入射させた際の屈折率が1.33以下の多孔質シリカ膜の製造方法である。この多孔質シリカ膜の製造方法は、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させ、得られた溶液を基板に供給して膜を形成、得られた膜を水洗し、250~800℃の範囲で加熱する工程から成っている。図は多孔質シリカ膜の製造方法の一例を示すフローチャートである。例では、テトラメチルシランを原料に、メタノール、ヒドロキシアセトンと水を混合、40℃で96h反応してコーティング溶液を調製し、シリコン基板にスピンコートし、その後200~800℃の所定温度で熱処理して多孔質シリカ膜を作製し、鉛筆硬度5H以上、屈折率1.34以下(200℃加熱の場合のみ1.37)の結果が示されている。この膜は低屈折率を有することから、例えば、光学機器、ディスプレイ、太陽電池などの反射による光損失や透過光の減少を低減する低屈折率膜、反射防止膜として利用可能である。
Drawing

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thum_2009-034054.GIF
Research field
  • Oxide thin films
  • Optical properties of condensed matter in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
低屈折率、高硬度で、密着性に優れた多孔質シリカ膜を得ることができる。
Usage Use field (In Japanese)光学機器、ディスプレイ、太陽電池、反射防止膜、低屈折率膜
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人信州大学, . (In Japanese)村上 泰, 清水 航, . POROUS SILICA FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME. P2010-189212A. Sep 2, 2010
  • C01B  33/12     
  • H01L  21/316    

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