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プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置


シーズコード	S120008721
掲載日	2012年2月9日
研究者	酒井道橘邦英
技術名称	プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置
技術概要	第１導電体と、第２導電体と、第１導電体と第２導電体との間に備えられた少なくとも１層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、第１導電体と第２導電体とは絶縁層を介して互いに接触している。そして、第１導電体と第２導電体とが絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、第１導電体と絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間を形成する。この隙間は、接触部の周囲に形成されているので微小な隙間であり、この隙間において、プラズマ化する流体の流体圧力（気体圧力あるいは液体圧力）を低くすることなく、流体圧力と放電距離との積を小さくすることができる。このため、パッシェンの法則とほぼ同様の放電開始条件を満たすための、両導電体間に印加すべき交流電圧の電圧値を、流体圧力が高い場合であっても低くできる。したがって、低電圧で安定してプラズマを生成することができる。
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研究分野	プラズマ一般
展開可能なシーズ	従来の、アーク放電、熱プラズマジェット、誘電体バリア放電などを利用したプラズマ生成装置では、気体密度が一定の場合（例えば大気圧下でプラズマを生成する場合など）、両電極間の実質的な放電距離が長くなると、放電電圧が大きくなってしまう。そこで、プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた　表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。第１導電体と第２導電体とが絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、第１導電体と絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間が形成することにより、隙間において、流体圧力を低くすることなく、流体圧力と放電距離との積を小さくすることができ、低電圧で安定してプラズマを生成することができる。
用途利用分野	表面処理装置、表示装置、流体改質装置
出願特許		特許	国際特許分類(IPC)
出願特許	( 1 )	国立大学法人京都大学， . 酒井道，橘邦英， . プラズマ生成装置、表面処理装置、および流体改質装置. 特開2008-130343. 2008-06-05	H05H 1/24 B01J 19/08