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PLASMA PRODUCTION DEVICE, SURFACE TREATMENT DEVICE, DISPLAY DEVICE AND FLUID REFORMER

Seeds code S120008721
Posted date Feb 9, 2012
Researchers
  • (In Japanese)酒井 道
  • (In Japanese)橘 邦英
Name of technology PLASMA PRODUCTION DEVICE, SURFACE TREATMENT DEVICE, DISPLAY DEVICE AND FLUID REFORMER
Technology summary (In Japanese)第1導電体と、第2導電体と、第1導電体と第2導電体との間に備えられた少なくとも1層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、第1導電体と第2導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、第1導電体と第2導電体とは絶縁層を介して互いに接触している。そして、第1導電体と第2導電体とが絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、第1導電体と絶縁層との間、第2導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか1つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間を形成する。この隙間は、接触部の周囲に形成されているので微小な隙間であり、この隙間において、プラズマ化する流体の流体圧力(気体圧力あるいは液体圧力)を低くすることなく、流体圧力と放電距離との積を小さくすることができる。このため、パッシェンの法則とほぼ同様の放電開始条件を満たすための、両導電体間に印加すべき交流電圧の電圧値を、流体圧力が高い場合であっても低くできる。したがって、低電圧で安定してプラズマを生成することができる。
Drawing

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thum_2006-313632.gif
Research field
  • Plasma in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)従来の、アーク放電、熱プラズマジェット、誘電体バリア放電などを利用したプラズマ生成装置では、気体密度が一定の場合(例えば大気圧下でプラズマを生成する場合など)、両電極間の実質的な放電距離が長くなると、放電電圧が大きくなってしまう。そこで、プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた 表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
第1導電体と第2導電体とが絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、第1導電体と絶縁層との間、第2導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか1つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間が形成することにより、隙間において、流体圧力を低くすることなく、流体圧力と放電距離との積を小さくすることができ、低電圧で安定してプラズマを生成することができる。
Usage Use field (In Japanese)表面処理装置、表示装置、流体改質装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人京都大学, . (In Japanese)酒井 道, 橘 邦英, . PLASMA PRODUCTION DEVICE, SURFACE TREATMENT DEVICE, DISPLAY DEVICE AND FLUID REFORMER. P2008-130343A. Jun 5, 2008
  • H05H   1/24     
  • B01J  19/08     

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