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(In Japanese)ハニカム構造体の製造方法

Seeds code S120008804
Posted date Feb 15, 2012
Researchers
  • (In Japanese)下村 政嗣
  • (In Japanese)藪 浩
  • (In Japanese)児島 美季
  • (In Japanese)壷内 幹彦
  • (In Japanese)尾上 慎弥
Name of technology (In Japanese)ハニカム構造体の製造方法
Technology summary (In Japanese)本発明に係るハニカム構造体は、光架橋性材料を用いて自己組織化現象を利用して製造される。これによって、ハニカム構造体は光架橋性材料が露光される(図3;光照射装置)ことによって形成される3次元架橋構造体を有していることから、耐熱性や耐薬品性に優れた特性をもつことが可能となる。このハニカム構造体は、疎水性有機溶媒が完全に蒸発し、かつ水滴が残存している、あるいは水滴の跡が崩れていない時に露光のタイミングを設定することにより良好なハニカム上のパターン構造が形成されたハニカム構造体が得られる。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2007-500553.gif
Research field
  • Moldings
Seeds that can be deployed (In Japanese)従来公知の自己組織化現象を利用した製造方法を用いて光架橋性材料からハニカム構造体を製造したが、サブミクロンから100ミクロン程度の均一な空孔を持つハニカム構造体の安定な製造はできなかった。自己組織化現象を利用した製造方法おいて、3次元架橋構造を形成するために光架橋法を用いる方法の開発を目的とした。
本発明に係るハニカム構造体は、光架橋性材料を用いることによって光の照射により3次元架橋構造が形成される。この3次元架橋構造は、熱や薬品に対して影響を受け難い。すなわち、3次元架橋構造が形成されるハニカム構造体は耐熱性および耐薬品性に優れた特性を有する。
Usage Use field (In Japanese)多孔質体フォトニック結晶素子、電極、バイオテクノロジー用パターン化基材、非線形光学材料
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人北海道大学, 協立化学産業株式会社, . (In Japanese)下村 政嗣, 藪 浩, 児島 美季, 壷内 幹彦, 尾上 慎弥, . (In Japanese)ハニカム構造体の製造方法. . Jun 19, 2008
  • C08J   9/28     

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