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METHOD FOR PRODUCING THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER, AND THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER

Seeds code S120009114
Posted date Feb 24, 2012
Researchers
  • (In Japanese)杉本 渉
  • (In Japanese)福田 勝利
  • (In Japanese)高須 芳雄
  • (In Japanese)木村 睦
Name of technology METHOD FOR PRODUCING THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER, AND THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER
Technology summary (In Japanese)図の(a)、(b)において、基材表面上にカチオン性ポリマー(ポリカチオン)からなる正電荷層を形成した後、正電荷層に自己組織化反応によって、酸化ルテニウム(RuO2)ナノシート(アニオン性のナノシート/金属酸化物ナノシート)を吸着させてナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成する。具体的には、まず、基板をポリカチオン水溶液(両親媒性のカチオン性ポリマーの水溶液)に浸漬して正電荷層を形成した後、超純水で3回に分けて基板を洗浄し、窒素ガンで基板上の水滴を飛ばす。次に、ナノシートコロイド溶液(酸化ルテニウムナノシート水分散液)に基板を浸漬した後、3回にわけて超純水で洗浄し、しかる後に、窒素ガンで基板上の水滴を飛ばす。その結果、基板上には酸化ルテニウムナノシートモノレイヤーが形成される。酸化ルテニウムナノシート多層膜を作製する場合は、上記の積層作業を繰り返す。この製造方法において、少なくとも、基板表面に最初に形成する正電荷層として、カチオン部、親水部および疎水部を備えた共重合体ポリマーを用いる。より具体的には、ポリビニルアミンとポリビニルアルコールとの共重合体を用いる。
Drawing

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thum_2009-032854.GIF
Research field
  • Thin films of organic compounds
  • Solid‐state devices in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)基材表面が親水性および疎水性のいずれであっても、自己組織化反応によってナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することのできるナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法、およびナノシートとポリマーとの複合薄膜を提供する。
基材表面が、親水性、疎水性、あるいは親水性領域と疎水性領域の双方が存在するような場合でも、正電荷層を好適に形成することができる。それ故、基材表面の性質を問わず、自己組織化反応を利用して、ナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することができる。
Usage Use field (In Japanese)ナノシート・ポリマー複合薄膜、光学素子、透光性電極、磁気素子、触媒
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人信州大学, . (In Japanese)杉本 渉, 福田 勝利, 高須 芳雄, 木村 睦, . METHOD FOR PRODUCING THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER, AND THIN COMPOSITE FILM COMPRISING NANO-SHEET AND POLYMER. P2010-188549A. Sep 2, 2010
  • B32B  27/28     
  • B32B   9/00     
  • B82B   3/00     
  • C01G  55/00     
  • C09D   1/00     
  • C09D 129/04     
  • C09D 139/02     
  • C09D   5/24     
  • H01B   5/14     
  • H01B  13/00     
  • B82B   1/00     

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