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HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATOR

Seeds code S130010278
Posted date Jun 6, 2013
Researchers
  • (In Japanese)節原 裕一
  • (In Japanese)庄司 多津男
  • (In Japanese)釜井 正善
Name of technology HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATOR
Technology summary (In Japanese)容量性又は誘導性の電気的に互いに独立した各負荷(アンテナ1)を2つ以上設けた高周波電力供給装置である。この装置は、電気的に互いに独立した各負荷に対して高周波電力を供給するための高周波電源(高周波発振制御器2)が、対応する各負荷にそれぞれ設けられ、各高周波電源は、それぞれ、対応する負荷に対する高周波電力増幅器(増幅器4)を備える。そして、高周波増幅器4の高周波出力と負荷1との間にインピーダンス整合用の受動回路と配線が設けられ、各負荷1での定在波の発生を回避するために、受動回路の出力点から対応する負荷1の任意の点までの長さが、高周波電力が各配線及び各負荷を波として伝搬する際の高周波電力の波長の1/4未満である。また、プラズマ発生装置は、高周波電力供給装置と、この高周波電力供給装置の負荷が高周波電力の印加によりプラズマを発生するように取り付けられた真空容器とを備える。
Drawing

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thum_2009-298645.gif
Research field
  • Power converters
  • Amplification circuits
  • Plasma devices
Seeds that can be deployed (In Japanese)誘導結合方式のプラズマ発生装置において、2つ以上のアンテナに高周波電力を並列に供給する従来の方式では、プラズマ発生部を大口径化あるいは大容積化しようとすれば、大面積あるいは大容積にわたって均一なプラズマ生成を行うために、各々のアンテナは、プラズマ発生室に局在しないように配置され、結果的に、インピーダンス整合器と、配線部を介した一つのアンテナとの距離、及びそれ以外のアンテナとの距離との差が増大する。そこで、プラズマ発生部の大口径化あるいは大容積化が可能な高周波電力供給装置及びプラズマ発生装置を提供する。
高周波電力供給装置及びプラズマ発生装置は、各々の負荷へ高周波電流を並列又は直列に供給する必要を省けるから、各負荷にそれぞれ発生する高周波電圧のバラツキを低減できる。この結果、プラズマ発生部の大口径化あるいは大容積化を図っても、より均一なプラズマを発生できて、プラズマによる薄膜形成や、プラズマイオン注入を安定化できて、ポリシリコン等の半導体用薄膜の形成に好適に利用できる。
Usage Use field (In Japanese)高周波電力供給装置、プラズマ発生装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構, . (In Japanese)節原 裕一, 庄司 多津男, 釜井 正善, . HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE AND PLASMA GENERATOR. P2010-157511A. Jul 15, 2010
  • H05H   1/46     
  • H05H   1/00     
  • H05H   1/24     
  • H01L  21/205    
  • H01L  21/3065   
  • C23C  16/505    
  • H01L  21/265    

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