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(In Japanese)金属ナノチューブ製造装置および金属ナノチューブの製造方法

Seeds code S130010866
Posted date Jun 6, 2013
Researchers
  • (In Japanese)福中 康博
  • (In Japanese)小西 陽子
  • (In Japanese)本山 宗主
  • (In Japanese)石井 隆次
Name of technology (In Japanese)金属ナノチューブ製造装置および金属ナノチューブの製造方法
Technology summary (In Japanese)金属ナノチューブ製造装置は、陰極2および陽極6を対向配置してなり、陰極2上には多孔膜4が設けられ、多孔膜4には貫通孔4aが多数設けられる。これら陰極2、多孔膜4および陽極6は、容器20内に収容されており、陰極2と陽極6とのあいだの空間8および多孔膜4の貫通孔4aが電解液で満たされる。この金属ナノチューブ製造装置において、陰極2および陽極6を電源10に接続して電圧を印加すると、電解液中の金属イオンが陰極側に移動し、貫通孔4aの壁面に析出して金属ナノチューブが形成される。多孔膜4としては、貫通孔を多数設けた熱可塑性樹脂多孔膜を用いることができる。また、貫通孔4aの壁面に金属ナノチューブが形成されるため、得られる金属ナノチューブの形状は、貫通孔4aの径と内部形状によってほぼ決定される。通電開始とともに陰極2の付近に金属が析出し、貫通孔4aの壁面に沿って成長することにより金属ナノチューブが形成されていくため、通電時間を適宜調節することにより所望の長さの金属ナノチューブを得ることができる。陰極2は、金、銅、金系合金、銅系合金または白金-パラジウム合金などの金属の薄膜であることが好ましい。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2005-514928.gif
Research field
  • Electroforming
  • Materials of solid‐state devices
Seeds that can be deployed (In Japanese)短時間で高品質の金属ナノチューブを製造することのできる製造装置および製造方法を提供する。
この金属ナノチューブの製造方法によれば、電解条件、金属チューブの壁厚、多孔膜の厚さや貫通孔の大きさにもよるが、200~400sという短時間で金属ナノチューブを形成することができる。得られる金属ナノチューブは、たとえばNi、Fe、Co、Pt、Pd、Rh、Ruなどの遷移金属やこれらの合金などからなり、直径は100~200nm、長さが6~10μm、アスペクト比が50~60、壁厚が1~70nm程度である。
Usage Use field (In Japanese)金属ナノチューブ製造装置、金属ナノチューブ、電子放出材料、水素貯蔵材料、配線材料、触媒、ナノリアクター、磁気記憶媒体、磁気メモリ素子
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)学校法人京都大学, . (In Japanese)福中 康博, 小西 陽子, 本山 宗主, 石井 隆次, . (In Japanese)金属ナノチューブ製造装置および金属ナノチューブの製造方法. . Mar 22, 2007
  • C25D   1/02     
  • B82B   3/00     

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