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LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS

Seeds code S130011056
Posted date Jun 7, 2013
Researchers
  • (In Japanese)西田 靖
Name of technology LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS
Technology summary (In Japanese)図1に示すように、液浸露光装置100は、光を照射する光照射装置110と、ウエハ50への転写回路パターンを有するレチクル120と、その回路パターンをウエハ50に投影する投影光学機構140と、液体Lをウエハ50の上面の所定空間に供給及び排出を行う液体給排装置200と、それを制御する液浸制御部180と、を備える。液体給排装置200は、投影光学機構140とウエハ50との間の液体保持空間を液体Lで充填する機能を有し、液体保持空間に液体Lを、供給する液体供給装置210と、回収する液体回収装置220と、液体Lを保持するための撥水特性を有する液体保持部材230と、液体保持部材230に電圧を印加する電圧印加手段240と、を有する。液体保持部材230の撥水特性は、電圧が印加無の場合も撥水特性を有するが、電圧印加時には撥水特性が向上する。そして、液浸露光装置100は、液体保持部材230が撥水特性を有しているので、投影光学機構140において、ウエハ50に対する露光位置が変化した場合に、液体保持部材230が移動し、それに伴って液体Lを移動させ、又、静電界印加により更に確実に移動させることができる。
Drawing

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thum_2007-073891.gif
Research field
  • Optical devices in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)投影レンズと基板(例えばウエハ)との間に供給された液体を基板と共に的確に移動させ、液体があるべき空間以外にその液体を滞留させることのない液浸露光装置を提供する。
この液浸露光装置では、投影手段と被露光体との間で、液体が供給される空間を囲うように撥水特性を有する液体保持部材が配置されているので、投影手段(投影レンズ)と被露光体との間に供給された液体を露光位置の変化に伴って的確に移動させることができ、空間外の被露光体上への液体の流出を防止できる。
Usage Use field (In Japanese)半導体デバイス製造用露光装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人宇都宮大学, . (In Japanese)西田 靖, . LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS. P2008-235620A. Oct 2, 2008
  • H01L  21/027    
  • G03F   7/20     

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