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LIGHT SOURCE DEVICE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY

Seeds code S130011979
Posted date Jun 10, 2013
Researchers
  • (In Japanese)大西 正視
  • (In Japanese)ワヒード ヒューグラス
Name of technology LIGHT SOURCE DEVICE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY
Technology summary (In Japanese)この半導体リソグラフィ用光源装置1は、内部空間が形成された空洞共振器10と、電気絶縁性を有する非磁性の材料で形成され、内部に希ガス又は希ガスが充填される空洞体20と、空洞共振器10の内部空間101に電磁波を供給するための電磁波供給手段3とを備え、空洞体20は、少なくとも一部から短波長の光成分又はこの光成分を含んだ光を放出可能に構成されるとともに、空洞共振器10の内部空間101に少なくとも一部が位置するように配置され、空洞共振器10は、空洞体20から放出される短波長の光成分又はこの光成分を含んだ光を外部へ放出可能な光放出部104が形成されている。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_2010-222493.gif
Research field
  • Manufacturing technology of solid‐state devices
Seeds that can be deployed (In Japanese)半導体ウェハに対する回路パターンの転写を阻害するデブリを発生させることなく、半導体ウェハに高集積化した回路を形成するのに最適な短波長の光を発生させることのできる半導体リソグラフィ用光源装置を提供する。
デブリの発生要因となるターゲットや電極を用いていないため、回路パターンの形成を阻害するデブリを発生することがなく、半導体ウェハWに高集積化した回路を形成するのに最適な短波長の光を発生させることができる。
Usage Use field (In Japanese)半導体リソグラフィ用光源、半導体用露光装置
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)学校法人 関西大学, . (In Japanese)大西 正視, ワヒード ヒューグラス, . LIGHT SOURCE DEVICE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY. P2012-079857A. Apr 19, 2012
  • H01L  21/027    
  • G03F   7/20     

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