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(In Japanese)遺伝子発現プロファイルの作製方法

Seeds code S090004063
Posted date Mar 30, 2010
Researchers
  • (In Japanese)安倍 真澄
Name of technology (In Japanese)遺伝子発現プロファイルの作製方法
Technology summary (In Japanese)HiCEP法のPCR反応工程において、PCR反応に用いるプライマーの鋳型へのアニーリング温度を特別の範囲に設定する。具体的には、プライマーのTm値に基づき、ニーリング温度をプライマーのTmMAX+6℃~TmMAX+14℃と規定する。プライマーのTm値が高くなるとアニーリング温度も高くなる。したがって、アニーリング温度が、耐熱性ポリメラーゼがPCR反応の全反応時間にわたって充分に機能しうる温度をこえることのないよう、プライマーのTm値は使用する耐熱性ポリメラーゼがPCR反応の全反応時間にわたって充分に機能する上限温度より6℃以上低いことが好ましい。
Drawing

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S090004063_01SUM.gif
Research field
  • Molecular genetics in general
  • Chromatography and electrophoretic analysis in general
Seeds that can be deployed (In Japanese)広範囲の遺伝子をカバーする遺伝子発現プロフィールを簡便に作製することができるHiCEP法について、発現遺伝子の検出感度の更なる向上を図る。
遺伝子発現プロファイル作製過程におけるプライマーのミスアニーリングに起因する偽ピークの発生を減少させることができるので、発現遺伝子の検出感度が向上し、精度の高い遺伝子発現プロフィールを得ることができる。作製した遺伝子発現プロファイル上に現れるピークの大きさは、被検細胞で発現した遺伝子の発現量を反映しているので、ピークの大きさの変化を観察することにより、遺伝子の発現頻度を解析することができる。
Usage Use field (In Japanese)遺伝子発現プロファイル解析キット
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, . (In Japanese)安倍 真澄, . METHOD FOR MAKING GENE EXPRESSION PROFILE. P2005-006554A. Jan 13, 2005
  • C12N  15/09     
  • C12Q   1/68     
  • G01N  33/50     
  • C12M   1/00     

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