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DISCHARGE VESSEL AND PLASMA RADICAL GENERATOR WITH THE DISCHARGE VESSEL

Seeds code S100001467
Posted date Sep 17, 2010
Researchers
  • (In Japanese)畑中 義式
  • (In Japanese)コルツェック・ダリウス
  • (In Japanese)エンゲマン・ジュルゲン
Name of technology DISCHARGE VESSEL AND PLASMA RADICAL GENERATOR WITH THE DISCHARGE VESSEL
Technology summary (In Japanese)カソード部6とアノード部7間に配置されてカソード部6とアノード部7を結合する部分であって、ジェット部5のくびれた構造によって生成されたプラズマを高密度にすることで高密度ラジカルを生成する。具体的には、ガス入力部9に導かれた原料ガス12はカソード部6を通り、ジェット部5、アノード部7と輸送管部8を通ってプロセス部に結合される。カソード部6でホロカソードプラズマが生成されるが、カソード部6における圧力はホロカソードの放電開始電圧によって決められる。高周波電源14によって給電されたカソード電極10とカソード壁6aとの容量結合により高密度なホロカソードプラズマ2に電力が供給される。容量結合により生じた電子電流32はジェット部5を通りアノードプラズマ部3及びアノード壁7aに達する。ここで、ジェット部5を設けることにより、ジェット部5でのラジカル発生効率を従来よりも高くする。即ち、ジェット部5では、電子温度が大きく、衝突励起の場合の励起エネルギーが大きいので、高い励起状態に励起することができる。
Drawing

※Click image to enlarge.

thum_1999-207851.gif
Research field
  • Discharge devices
  • Gas discharges
  • Plasma production and heating
Seeds that can be deployed (In Japanese)ラジカルを放電プラズマの状態から高効率に得るプラズマラジカル生成装置を提供する。
カソード部とアノード部間に配置されてカソード部とアノード部とを結合する部分であって、くびれた構造を有し、くびれた構造によって生成されたプラズマを高密度にすることで高密度ラジカルを生成することにより、簡単な構成で、高効率及び高密度のラジカルを生成することができる。
Usage Use field (In Japanese)高周波ホロカソードプラズマ源
Application patent   patent IPC(International Patent Classification)
( 1 ) (In Japanese)国立大学法人静岡大学, . (In Japanese)畑中 義式, コルツェック・ダリウス, エンゲマン・ジュルゲン, . DISCHARGE VESSEL AND PLASMA RADICAL GENERATOR WITH THE DISCHARGE VESSEL. P2001-035692A. Feb 9, 2001
  • H05H   1/24     
  • H05H   1/46     

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