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該当件数 168件

No. 技術シーズコード
技術名称
掲載日
更新日
1 S032000368 レーザーアブレーション成膜装置および成膜方法(国内優先権主張出願) 新技術説明会 2003/10/01 2003/09/11
2 S032000411 高飽和磁化および良好な軟磁気特性を有するFe基非晶質合金 2003/10/01 2003/09/11
3 S040000035 光学変調素子用液晶材料 2006/08/18 2005/02/24
4 S040000307 水素吸蔵材料とその製造方法 2006/09/01 2005/03/17
5 S040000322 沿面放電支援型化学気相析出装置 2006/09/01 2005/03/17
6 S040000339 4,4’’-ジイソプロピルビフェニルの合成方法及び触媒 2006/09/01 2005/03/17
7 S040000409 酸化亜鉛粒子および酸化亜鉛膜の製造方法 新技術説明会 2006/09/01 2005/03/17
8 S090000172 液晶レンズ 2009/09/14 2009/09/11
9 S090000393 液晶素子の駆動装置 2009/09/14 2009/09/11
10 S090000398 微粒子の製造方法 2009/09/14 2009/09/11
11 S090000421 液晶光学素子 2009/09/14 2009/09/11
12 S090000602 高品質ハニカム構造フィルムの製造方法 2009/09/14 2009/09/11
13 S090000664 微粒子集積体の製造方法及び微粒子細線アレイ 2009/09/14 2009/09/11
14 S090000778 ゼロ面アンカリング液晶配向法及びその液晶デバイス 2009/09/14 2009/09/11
15 S090000837 光学素子 2009/09/14 2009/09/11
16 S090000862 高分子薄膜の製造方法 2009/09/14 2009/09/11
17 S090001130 GSO単結晶及びPET用シンチレータ 2010/03/05 2010/03/01
18 S090001248 3元系相図薄膜の作製方法及びそれに用いるコンビナトリアル成膜装置用マスキング機構 2010/03/05 2010/03/01
19 S090001249 ガスクラスターイオン援用酸化物薄膜形成方法 2010/03/05 2010/03/01
20 S090001370 有機エレクトロルミネッセンス薄膜の作製方法と作製装置 新技術説明会 2010/03/05 2010/03/01
21 S090002084 自然超格子ホモロガス単結晶薄膜の製造方法。 2010/03/19 2010/03/18
22 S090002712 アルミニウム又は/及びアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の形成方法およびその方法により形成される陽極酸化皮膜 2010/03/26 2010/03/24
23 S090002714 膜の製造方法 2010/03/26 2010/03/24
24 S090002798 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ 2010/03/26 2010/03/24
25 S090003500 Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法 2010/03/30 2010/03/26
26 S090003695 半導体薄膜製造装置および方法 新技術説明会 2010/03/30 2010/03/26
27 S090003696 電気特性測定装置 新技術説明会 2010/03/30 2010/03/26
28 S090003697 機能性基体、機能性基体を製造する方法および剥離層除去方法 2010/03/30 2010/03/26
29 S090003706 多孔質半導体膜の形成方法 2010/03/30 2010/03/26
30 S090003708 多孔質シリコン膜及びその製造方法並びに半導体発光素子 2010/03/30 2010/03/26
31 S090003736 薄膜形成方法 2010/03/30 2010/03/26
32 S090004143 粒子集積構造体の製造方法 2010/03/30 2010/03/26
33 S090004265 プロトン伝導性芳香族高分子、プロトン伝導性芳香族高分子膜及びそれを用いた燃料電池 2010/03/30 2010/03/26
34 S090004285 透明導電膜の製造方法および製造装置 2010/03/30 2010/03/26
35 S100000229 高輝度金属酸化物蛍光構造体、その製造方法及び製造装置 2010/09/16 2010/09/16
36 S100001633 半導体素子の製造方法及び半導体素子 2010/10/04 2010/10/04
37 S100001856 酸化亜鉛系薄膜の成長方法 2010/10/06 2010/10/06
38 S100001911 半導体素子用基板、半導体素子の製造方法及び半導体素子 2010/10/06 2010/10/06
39 S100001912 高分子材料の熱光学定数測定方法及び高分子薄膜の熱光学定数測定方法 2010/10/06 2010/10/06
40 S100002077 感温色素担持超薄膜を用いてなる光学的温度センサー 2010/10/07 2010/10/07
41 S100002085 液晶光学計測装置及びそれを用いた光学計測測定システム 2010/10/07 2010/10/07
42 S100002127 Si-O-Si結合を含む化合物への光照射による酸化ケイ素膜の形成法 2010/10/07 2010/10/07
43 S100002571 球状単結晶シリコンの製造方法 2010/11/04 2010/11/04
44 S100002615 すずーニッケル合金膜の製造方法 2010/11/05 2010/11/05
45 S100002619 すず-ニッケル合金膜の製造方法 2010/11/05 2010/11/05
46 S100002670 レーザーアブレーションを利用したSiO2膜の形成法及び装置 2010/11/05 2010/11/05
47 S100002681 レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法 2010/11/05 2010/11/05
48 S100002685 レーザー光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物の表面改質法 2010/11/05 2010/11/05
49 S100002686 熱型赤外線検出器の製造方法 2010/11/05 2010/11/05
50 S100002691 負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置 2010/11/05 2010/11/05
51 S100002692 酸化物膜の構造を制御する方法及び該方法に使用する装置 2010/11/05 2010/11/05
52 S100002693 金属酸化物構造体、その製造方法及び製造装置 2010/11/05 2010/11/05
53 S100002694 基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置 2010/11/05 2010/11/05
54 S100002781 アモルファスシリコン薄膜の成膜方法 2010/11/05 2010/11/05
55 S100002805 無転位シリコン単結晶の製造方法 2010/11/05 2010/11/05
56 S100002824 粒子位置の制御方法およびその制御方法を用いた粒子膜の製造方法および粒子膜 2010/11/05 2010/11/05
57 S100002855 チタン酸バリウム結晶、コンデンサ、光スイッチおよびFRAM 2010/11/05 2010/11/05
58 S100002863 イオンビーム微細加工方法 2010/11/05 2010/11/05
59 S100002865 無機多層レジストのイオンビーム微細加工方法及びこの方法による半導体デバイス、量子デバイス、マイクロマシーンコンポーネント及び微細構造体 2010/11/05 2010/11/05
60 S100002868 液晶表示素子 2010/11/05 2010/11/05
61 S100003065 球状単結晶シリコンの製造方法 2010/11/05 2010/11/05
62 S100003149 原子レベルで平坦な金薄膜作製法 2010/11/05 2010/11/05
63 S100003164 液相からのバルク単結晶ベータ鉄シリサイド結晶成長法 2010/11/05 2010/11/05
64 S100003165 カルシウムシリサイド薄膜の成長方法 2010/11/05 2010/11/05
65 S100003189 層状マンガン酸化物薄膜を製造する方法 2010/11/05 2010/11/05
66 S100003342 テープ状酸化物超電導体 2010/11/12 2010/11/12
67 S100003607 複合金属酸化物多孔体の製造方法およびこれにより得られる複合金属酸化物多孔体並びにその利用 2010/12/02 2010/12/02
68 S100003608 パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 2010/12/02 2010/12/02
69 S100003627 金属被膜を有するプラスチック成形体とその製造方法およびそれらを用いた物品 2010/12/02 2010/12/02
70 S100003637 導電性ペーストとその製造方法およびそれらを用いた配線とその製造方法とそれらを用いた電子部品と電子機器 2010/12/02 2010/12/02
71 S100003641 両面発光有機ELパネル 2010/12/02 2010/12/02
72 S100003658 導電性付与可能なLB膜及び導電性LB膜 2010/12/02 2010/12/02
73 S100003724 熱処理装置及びそれを用いた熱処理方法 2010/12/02 2010/12/02
74 S100003726 単結晶炭化ケイ素基板の処理方法、半導体素子の製造方法、及び半導体素子 2010/12/02 2010/12/02
75 S100003727 熱処理装置及び熱処理方法 2010/12/02 2010/12/02
76 S100003755 Si系結晶の製造方法 新技術説明会 2010/12/03 2010/12/03
77 S100003761 荷電制御強磁性半導体 2010/12/03 2010/12/03
78 S100003805 ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法 2010/12/03 2010/12/03
79 S100003813 カーボンナノチューブと高分子を用いた電子放出源の製法 2010/12/03 2010/12/03
80 S100003818 層状ルテニウム酸化合物膜 2010/12/03 2010/12/03
81 S100003820 透明薄膜電極およびそれを有する電気化学蓄電素子 2010/12/03 2010/12/03
82 S100003821 有機エレクトロルミネッセンス素子 2010/12/03 2010/12/03
83 S100003826 磁性薄膜の形成方法 2010/12/03 2010/12/03
84 S100004066 結晶の対掌性識別方法 2010/12/06 2010/12/06
85 S100004069 レーザ照射方法及び装置、微細加工方法及び装置、並びに薄膜形成方法及び装置 2010/12/06 2010/12/06
86 S100004144 炭化シリコンの作製方法 2010/12/06 2010/12/06
87 S100004145 薄膜結晶化方法及び装置 2010/12/06 2010/12/06
88 S100004295 窒化物半導体電子放出素子 2010/12/07 2010/12/07
89 S100004309 結晶成長方法及び結晶成長装置 新技術説明会 2010/12/07 2010/12/07
90 S100004357 同軸磁化プラズマ生成装置と同軸磁化プラズマ生成装置を用いた膜形成装置 2010/12/07 2010/12/07
91 S100004515 低交流損失酸化物超電導導体及びその製造方法 2010/12/07 2010/12/07
92 S110004894 小型可変エネルギー単色コヒーレントマルチX線発生装置 2011/01/04 2011/01/04
93 S110004994 液晶流動を用いた物体回転機構 2011/01/04 2011/01/04
94 S110004997 液晶欠陥を利用した液晶流動形成機構および液晶流動形成方法、並びに、液晶流動を利用した物体移動機構および物体移動方法 2011/01/04 2011/01/04
95 S110005119 単結晶炭化ケイ素基板の製造方法 2011/01/04 2011/01/04
96 S110005135 ナノ粒子集合体薄膜及び該薄膜よりなる非線形光学材料 2011/01/04 2011/01/04
97 S110005150 硬質窒化炭素膜の形成方法 2011/01/04 2011/01/04
98 S110005160 ナノ粒子生成方法及びレーザカラーマーキング方法 新技術説明会 2011/01/04 2011/01/04
99 S110005477 バイオ分子素子、バイオセンサー分子の支持体となる脂肪酸と脂質の積層分子薄膜およびその製造方法 新技術説明会 2011/01/12 2011/01/12
100 S110005494 KFを含有するチタン酸バリウム系圧電体またはその製造方法 2011/01/12 2011/01/12

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